[发明专利]一种半导体光刻板清洗机有效
| 申请号： | 202010597763.4 | 申请日： | 2020-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN111701935B | 公开（公告）日： | 2021-11-09 |
| 发明（设计）人： | 王佩 | 申请（专利权）人： | 广东达源设备科技有限公司 |
| 主分类号： | B08B3/02 | 分类号： | B08B3/02;B08B3/08;B08B13/00;B08B17/02 |
| 代理公司： | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙) 11638 | 代理人： | 杨剑 |
| 地址： | 523000 广东省东莞市洪梅镇望*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种半导体光刻板清洗机，清洗舱、把手、设备舱，清洗舱通过焊接安装在设备舱的正上方，把手嵌固安装在设备舱上端左侧方；清洗舱包括镶嵌轨、喷雾器、活动轴端、连通软管、储备槽、工作平台，镶嵌轨卡合连接着活动轴端的下端面，喷雾器活动卡合在活动轴端正下方，活动轴端嵌固连接在储备槽左侧方，连通软管镶嵌连接在喷雾器的右侧端面，且与储备槽表面连接，工作平台位于喷雾器的正下方，当反应剂与污垢接触后形成水渍，顺着光刻板四周向下流动至防漏板表面的镂空口，使其顺着蓄流槽的内壁向下流动，避免像以往设备的工作平台形成污垢水渍堆积，使光刻板下端表面，随着水张力形成漂浮，致使光刻板平衡被打破。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 半导体 刻板 清洗 | ||
【主权项】：
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