[发明专利]一种光刻板板架在审
申请号: | 202110503508.3 | 申请日: | 2021-05-10 |
公开(公告)号: | CN113296350A | 公开(公告)日: | 2021-08-24 |
发明(设计)人: | 李海燕;徐长彬 | 申请(专利权)人: | 中国电子科技集团公司第十一研究所 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F1/82 |
代理公司: | 工业和信息化部电子专利中心 11010 | 代理人: | 焉明涛 |
地址: | 100015*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种光刻板板架,光刻板板架,包括:框体1和至少一组支撑组件13;框体1至少包括两块相对设置的放置板,至少一组支撑组件13相对设置在放置板上,至少一组支撑组件13形成放置轨道并对放入其间的光刻板3进行支撑;框体上还设置有阻挡结构,阻挡结构用于对光刻板3进行限位;阻挡结构之间留有空隙区域,空隙区域用于流通洗液至光刻板3上,实现对光刻板3的清洗。本发明实施例通过设计与光刻板对应的框架结构,利用支撑组件实现对光刻板的支撑放置,并设计一洗液流通区域,使得洗液可以在光刻板上流通,一方面提高了光刻板的收纳效率,同时兼具了清洗功能。 | ||
搜索关键词: | 一种 光刻 板板 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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