[发明专利]一种半导体光刻板清洗机

权利要求书

1.一种半导体光刻板清洗机，其结构包括清洗舱(1)、把手(2)、设备舱(3)，所述清洗舱(1)通过焊接安装在设备舱(3)的正上方，所述把手(2)嵌固安装在设备舱(3)上端左侧方；其特征在于：

所述清洗舱(1)包括镶嵌轨(11)、喷雾器(12)、活动轴端(13)、连通软管(14)、储备槽(15)、工作平台(16)，所述镶嵌轨(11)卡合连接着活动轴端(13)的下端面，所述喷雾器(12)活动卡合在活动轴端(13)正下方，所述活动轴端(13)嵌固连接在储备槽(15)左侧方，所述连通软管(14)镶嵌连接在喷雾器(12)的右侧端面，且与储备槽(15)表面连接，所述工作平台(16)位于喷雾器(12)的正下方；

所述工作平台(16)包括蓄流槽(161)、防漏板(162)、镂空口(163)、支撑弧板(164)、连接块(165)，所述蓄流槽(161)镶嵌卡合连接在防漏板(162)的正下方，所述防漏板(162)上表面均匀分布着镂空口(163)，所述镂空口(163)镶嵌安装在连接块(165)正上方，所述支撑弧板(164)对称安装在防漏板(162)的左右两侧，所述连接块(165)嵌固安装在工作平台(16)的下端面；

所述镂空口(163)包括镶嵌螺纹环(3a)、分割片(3b)、流通口(3c)、防护挡板(3d)，所述镶嵌螺纹环(3a)镶嵌环绕在镂空口(163)的外侧端面，所述分割片(3b)均匀分布在流通口(3c)的内壁上，所述流通口(3c)位于防护挡板(3d)正下方，所述防护挡板(3d)镶固连接在镂空口(163)的上端表面；

所述支撑弧板(164)包括防漏机构(4a)、积流槽(4b)、导流口(4c)，所述防漏机构(4a)嵌固安装在导流口(4c)的正上方，且与积流槽(4b)的表面相贴合，所述积流槽(4b)位于防漏机构(4a)的左下方。

2.根据权利要求1所述的一种半导体光刻板清洗机，其特征在于：所述分割片(3b)包括疏油层(3b1)、切割刀片(3b2)、流动槽(3b3)、连接板(3b4)，所述疏油层(3b1)均匀包裹在切割刀片(3b2)的下端外表面，所述切割刀片(3b2)通过电焊连接在连接板(3b4)的上方端面，所述流动槽(3b3)镶嵌卡合在连接板(3b4)的内端面，所述连接板(3b4)镶嵌安装在流通口(3c)的内端面。

3.根据权利要求1所述的一种半导体光刻板清洗机，其特征在于：所述防漏机构(4a)包括顶板(4a1)、弹簧(4a2)、第二流动槽(4a3)、支撑块(4a4)，所述顶板(4a1)下端面通过电焊连接着弹簧(4a2)，所述弹簧(4a2)位于第二流动槽(4a3)的左侧方，所述第二流动槽(4a3)的右侧端设有支撑块(4a4)。