[发明专利]化学机械抛光组合物以及方法有效
| 申请号： | 202010409841.3 | 申请日： | 2020-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN111944429B | 公开（公告）日： | 2021-11-16 |
| 发明（设计）人： | N·K·彭塔;K·E·特泰;M·范汉尼赫姆 | 申请（专利权）人： | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈哲锋;钱文宇 |
| 地址： | 美国特*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 酸性化学机械抛光组合物以及方法具有增强的缺陷抑制并且在酸性环境中优先于二氧化硅选择性地抛光氮化硅。所述酸性化学机械抛光组合物包括聚(2‑乙基‑2‑噁唑啉)聚合物、阴离子官能胶体二氧化硅颗粒、胺羧酸并且具有5或更小的pH。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械抛光 组合 以及 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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