[发明专利]薄膜晶体管结构及其制作方法有效

专利信息
申请号: 202010143991.4 申请日: 2020-03-04
公开(公告)号: CN111490054B 公开(公告)日: 2022-12-06
发明(设计)人: 谢孟廷;石秉弘 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;H01L21/66;G02F1/1368
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种薄膜晶体管结构,包括:主动区、周边区、第一图案化导电层、第二图案化导电层、介电层以及转接桥。主动区包括多个金属氧化物半导体薄膜晶体管。周边区邻接于该主动区。第一图案化导电层至少部分位于周边区。第二图案化导电层由主动区延伸至周边区。介电层位于第一图案化导电层与第二图案化导电层之间,并将第一图案化导电层和第二图案化导电层电性隔离。转接桥位于周边区,包括接触垫和连接线。接触垫邻接且与第二图案化导电层电性隔离,并穿过介电层,而与第一图案化导电层接触。连接线分别与第二图案化导电层和接触垫电性接触。
搜索关键词: 薄膜晶体管 结构 及其 制作方法
【主权项】:
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