[发明专利]一种金刚石膜的等离子体电弧沉积装置与方法有效
| 申请号： | 202010015166.6 | 申请日： | 2020-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN111005065B | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 李成明;郑宇亭;欧阳晓平;魏俊俊;陈良贤;刘金龙;张建军 | 申请（专利权）人： | 北京科技大学 |
| 主分类号： | C30B25/02 | 分类号： | C30B25/02;C30B29/04;C23C16/27;C23C16/513 |
| 代理公司： | 北京市广友专利事务所有限责任公司 11237 | 代理人： | 张仲波 |
| 地址： | 100083*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种金刚石膜的等离子体电弧沉积装置与方法，属金刚石材料制备技术领域。采用具有多级磁场控制的直流电弧等离子体装置沉积大面积共形金刚石膜：通过稳弧磁场线圈产生的磁场实现对旋转等离子体电弧的稳定控制；扩展弧线圈在进一步稳定电弧的同时，扩展旋转电弧与衬底尺寸相适应，实现电弧的大面积稳定旋转导向衬底；同时衬底底部的引导磁场线圈实现等离子电弧向衬底凹陷部分移动，实现共形衬底表面的金刚石均匀沉积。三个磁场线圈在实现旋转电弧的产生和稳定的同时扩展并引导电弧来扩大金刚石沉积面积，避免阳极积碳对电弧的干扰，实现厚度均匀的金刚石膜长期稳定生长。所得共形金刚石膜可作为高热流密度快速散热的热沉或窗口材料。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金刚石 等离子体 电弧 沉积 装置 方法 | ||
【主权项】：
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