[发明专利]一种碱辅助化学气相沉积生长大面积单层二硫化钨的制备方法在审
| 申请号: | 202010007011.8 | 申请日: | 2020-01-03 |
| 公开(公告)号: | CN111041450A | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
| 发明(设计)人: | 张永哲;王佳蕊;马洋;安博星;李毓佛;严辉 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
| 主分类号: | C23C16/30 | 分类号: | C23C16/30;C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 张立改 |
| 地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明公开一种碱辅助化学气相沉积生长大面积单层二硫化钨的制备方法,属于纳米材料领域。本方法采用在化学气相沉积法生长过程中,通过碱作为促进剂,辅助生长单层二硫化钨。其中氧化钨源与碱的质量比为8:1‑2:1。本发明利用碱辅助生长二硫化钨,可以有效地降低生长温度,在常压下,实现快速生长和制备大面积单层二硫化钨样品,且制备的二硫化钨具有高的光致发光强度。该实验方法工艺简单,重复性好,对环境友好,且原料成本低,适合大规模生产。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 辅助 化学 沉积 生长 大面积 单层 硫化 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





