[发明专利]含腐蚀抑制剂的清洗组合物在审
| 申请号： | 201980047825.X | 申请日： | 2019-07-18 |
| 公开（公告）号： | CN112424327A | 公开（公告）日： | 2021-02-26 |
| 发明（设计）人： | D·怀特;E·托马斯;刘俊;M·怀特;王朝钰;D·弗赖伊 | 申请（专利权）人： | 恩特格里斯公司 |
| 主分类号： | C11D3/00 | 分类号： | C11D3/00;C11D3/04;C11D3/28;C11D3/20;H01L21/02;H01L21/321 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 李婷 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于清洗工艺内微电子装置衬底的清洗组合物和方法，例如通过化学机械抛光CMP后清洗，以自其表面去除残余物，其中所述清洗组合物可尤其有效地用于清洗包括例如钴、铜或两者的经暴露金属以及介电或低k介电材料的衬底表面，且其中所述清洗组合物包括腐蚀抑制剂以抑制所述经暴露金属的腐蚀。 | ||
| 搜索关键词： | 腐蚀 抑制剂 清洗 组合 | ||
【主权项】：
暂无信息
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