[发明专利]药液、药液的制造方法及被检液的分析方法在审

专利信息
申请号: 201980007846.9 申请日: 2019-01-10
公开(公告)号: CN111587405A 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 上村哲也 申请(专利权)人: 富士胶片株式会社
主分类号: G03F7/26 分类号: G03F7/26
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 朱丹
地址: 日本国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的课题在于提供一种即使在应用于利用KrF准分子激光曝光及ArF准分子激光曝光进行的抗蚀剂工艺时也具有优异的缺陷抑制性能的药液。并且,本发明的课题还在于提供一种被检液的分析方法及药液的制造方法。本发明的药液含有:有机溶剂;及含金属粒子,含有金属原子且粒径为10~100nm,所述药液中,含金属粒子的含有粒子数为1.0×10‑2~1.0×1012个/cm3
搜索关键词: 药液 制造 方法 被检液 分析
【主权项】:
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