[实用新型]一种驱动装置以及半导体工艺机台

摘要

本实用新型涉及一种驱动装置以及半导体工艺机台，半导体工艺机台包括腔室、设置在腔室内的保护环以及驱动装置。驱动装置包括动力缸、波纹管、连杆和保护罩。动力缸设置在腔室的外部，波纹管和连杆均设置在腔室内，连杆竖直布置且上端与保护环连接，下端通过波纹管连接动力缸，特别地，保护罩设置在连杆上并遮盖波纹管。例如在刻蚀工艺中，保护环的作用是遮挡晶圆的边缘，避免晶圆边缘遭受刻蚀，此过程中，保护罩可以阻止刻蚀反应物粘附于波纹管表面，从而确保保护环能够下降到工艺位置，由此保证晶圆刻蚀质量。