[实用新型]一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带有效
申请号: | 201922193423.0 | 申请日: | 2019-12-10 |
公开(公告)号: | CN210897229U | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 洪飞;洪志浩;周俊宏;周俊强 | 申请(专利权)人: | 扬州市天洪机械有限公司 |
主分类号: | H01L21/677 | 分类号: | H01L21/677;H01L21/67 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 | 代理人: | 陈栋智 |
地址: | 225000 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种应用于半导体清洗机台的防静电输送带,包括机台、传输装置、罩体、清洗装置以及除水降温装置;传输装置安装在机台中,传输装置上按顺序设置有进料区、输送区、清洗区、除水区、出料区及输送带,输送带上设置有若干半导体,且输送带采用防静电材料制成,用以吸收半导体的静电;罩体设置在机台顶部;清洗装置设置在机台中,清洗装置为可用以喷洒的清洗液,用以清洗半导体表面,并设置在清洗区;除水降温装置用以去除预设在半导体上的清洗液、且设置在机台的除水区中,本实用新型消除半导体在清洗风干过程所产生静电,解决输送带容易刮伤半导体表面的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 应用于 半导体 清洗 机台 静电 输送带 | ||
【主权项】:
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造