[实用新型]半导体测试结构有效
| 申请号： | 201922127743.6 | 申请日： | 2019-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN210575846U | 公开（公告）日： | 2020-05-19 |
| 发明（设计）人： | 钱仕兵 | 申请（专利权）人： | 长鑫存储技术有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66;H01L23/544 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 黄丽 |
| 地址： | 230000 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型涉及一种半导体测试结构，用于在测试MOS器件的栅电容时作为栅电极的引出端与外部测试结构连接。所述半导体测试结构包括衬底，所述衬底上设有待测试的MOS器件；焊盘，用于连接外部测试结构；顶层金属层，与所述焊盘和待测试的MOS器件的栅电极均连接；底层金属层，所述底层金属层与所述衬底、焊盘和顶层金属层均不互连。本实用新型的技术方案通过串联连接多个寄生电容的方法，减小了与栅电容并联连接的总寄生电容，从而降低了总寄生电容对栅电容测试结果的影响，获得了准确的栅电容测试结果。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 测试 结构 | ||
【主权项】：
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
