[实用新型]低压降二极管有效

专利信息
申请号: 201920316249.1 申请日: 2019-03-13
公开(公告)号: CN209401633U 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: 王成森;潘建英;沈怡东;欧阳潇 申请(专利权)人: 捷捷半导体有限公司
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L21/329;H01L29/06
代理公司: 石家庄轻拓知识产权代理事务所(普通合伙) 13128 代理人: 王占华
地址: 226000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 实用新型公开了一种低压降二极管,涉及二极管技术领域。所述二极管包括N‑原始单晶层,所述N‑原始单晶层的下表面形成有N+衬底层,所述N+衬底层的下表面形成有N++衬底层,所述N++衬底层的下表面形成有N+++衬底层,所述N+++衬底层的下表面形成有阴极金属层,所述阴极金属层、N+++衬底层、N++衬底层、N+衬底层以及N‑原始单晶层形成完整的二极管阴极区,所述N‑原始单晶层的上表面形成有P型阳极层,所述P型阳极层的上表面形成有阳极金属层,所述P型阳极层以及部分N‑原始单晶层的四周形成有半环形沟槽,在所述半环形沟槽的内壁形成有钝化层。所述二极管中具有高浓度的厚衬底层,且通过设置N+++/N++/N+/N‑/P结构,使得阴极区串联电阻小,压降低。
搜索关键词: 衬底层 原始单晶 下表面 阳极层 低压降二极管 阴极金属层 二极管 半环形 上表面 本实用新型 二极管技术 二极管阴极 阳极金属层 串联电阻 钝化层 阴极区 内壁
【主权项】:
1.一种低压降二极管,其特征在于:包括N‑原始单晶层(1),所述N‑原始单晶层(1)的下表面形成有N+衬底层(2),所述N+衬底层(2)的下表面形成有N++衬底层(3),所述N++衬底层(3)的下表面形成有N+++衬底层(4),所述N+++衬底层(4)的下表面形成有阴极金属层(5),所述阴极金属层(5)、N+++衬底层(4)、N++衬底层(3)、N+衬底层(2)以及N‑原始单晶层(1)形成完整的二极管阴极区,所述N‑原始单晶层(1)的上表面形成有P型阳极层(6),所述P型阳极层(6)的上表面形成有阳极金属层(7),所述P型阳极层(7)以及部分N‑原始单晶层(1)的四周形成有半环形沟槽,在所述半环形沟槽的内壁形成有钝化层(8)。
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