[实用新型]低压降二极管有效
申请号: | 201920316249.1 | 申请日: | 2019-03-13 |
公开(公告)号: | CN209401633U | 公开(公告)日: | 2019-09-17 |
发明(设计)人: | 王成森;潘建英;沈怡东;欧阳潇 | 申请(专利权)人: | 捷捷半导体有限公司 |
主分类号: | H01L29/861 | 分类号: | H01L29/861;H01L21/329;H01L29/06 |
代理公司: | 石家庄轻拓知识产权代理事务所(普通合伙) 13128 | 代理人: | 王占华 |
地址: | 226000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本实用新型公开了一种低压降二极管,涉及二极管技术领域。所述二极管包括N‑原始单晶层,所述N‑原始单晶层的下表面形成有N+衬底层,所述N+衬底层的下表面形成有N++衬底层,所述N++衬底层的下表面形成有N+++衬底层,所述N+++衬底层的下表面形成有阴极金属层,所述阴极金属层、N+++衬底层、N++衬底层、N+衬底层以及N‑原始单晶层形成完整的二极管阴极区,所述N‑原始单晶层的上表面形成有P型阳极层,所述P型阳极层的上表面形成有阳极金属层,所述P型阳极层以及部分N‑原始单晶层的四周形成有半环形沟槽,在所述半环形沟槽的内壁形成有钝化层。所述二极管中具有高浓度的厚衬底层,且通过设置N+++/N++/N+/N‑/P结构,使得阴极区串联电阻小,压降低。 | ||
搜索关键词: | 衬底层 原始单晶 下表面 阳极层 低压降二极管 阴极金属层 二极管 半环形 上表面 本实用新型 二极管技术 二极管阴极 阳极金属层 串联电阻 钝化层 阴极区 内壁 | ||
【主权项】:
1.一种低压降二极管,其特征在于:包括N‑原始单晶层(1),所述N‑原始单晶层(1)的下表面形成有N+衬底层(2),所述N+衬底层(2)的下表面形成有N++衬底层(3),所述N++衬底层(3)的下表面形成有N+++衬底层(4),所述N+++衬底层(4)的下表面形成有阴极金属层(5),所述阴极金属层(5)、N+++衬底层(4)、N++衬底层(3)、N+衬底层(2)以及N‑原始单晶层(1)形成完整的二极管阴极区,所述N‑原始单晶层(1)的上表面形成有P型阳极层(6),所述P型阳极层(6)的上表面形成有阳极金属层(7),所述P型阳极层(7)以及部分N‑原始单晶层(1)的四周形成有半环形沟槽,在所述半环形沟槽的内壁形成有钝化层(8)。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于捷捷半导体有限公司,未经捷捷半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201920316249.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类