[发明专利]一种碳化硅MOSFET器件的元胞结构及功率半导体器件有效

专利信息
申请号: 201911370380.7 申请日: 2019-12-26
公开(公告)号: CN113053992B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 王亚飞;陈喜明;张超;张文杰;李诚瞻;罗海辉 申请(专利权)人: 株洲中车时代半导体有限公司
主分类号: H01L29/06 分类号: H01L29/06;H01L29/78
代理公司: 北京聿宏知识产权代理有限公司 11372 代理人: 吴大建;张杰
地址: 412001 湖南省株洲市石峰*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 发明公开了一种碳化硅MOSFET器件的元胞结构,包括:位于第一导电类型衬底层上的第一导电类型漂移区,位于漂移区内的第二导电类型阱区和JFET区,位于阱区表面内的增强区,位于第一导电类型增强区、阱区以及JFET区上且与它们同时接触的栅极绝缘层及其之上的栅极,位于增强区上的源极金属,位于第二电类型增强区和漂移区上的肖特基金属,以及位于衬底之下的漏极金属。本发明通过在三维分裂栅结构的碳化硅MOSFET元胞结构内集成SBD,提高了MOSFET器件体二极管的开启电压,提高了器件可靠性,通过SBD集成于MOSFET元胞结构的JFET区,增加了器件整体功率密度,且肖特基金属与JFET掺杂区域进行错位间隔设置,实现了导通电阻和漏电流较好的折中关系。
搜索关键词: 一种 碳化硅 mosfet 器件 结构 功率 半导体器件
【主权项】:
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