[发明专利]一种基板及其制备方法、掩膜板有效
| 申请号: | 201911235440.4 | 申请日: | 2019-12-05 |
| 公开(公告)号: | CN110911423B | 公开(公告)日: | 2022-11-25 |
| 发明(设计)人: | 万彬;黎敏;庞家齐;彭元鸿 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;重庆京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L27/32;H01L21/84;G02F1/1339;G03F1/00 |
| 代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 本发明实施例提供一种基板及其制备方法、掩膜板,涉及显示技术领域,可以解决隔垫物的第二表面与膜层的接触面积较小的问题。该基板包括多个发光区和用于界定所述发光区的非发光区;所述基板包括底板以及设置在所述底板上,且位于所述非发光区的隔垫物;所述隔垫物包括靠近所述底板的第一表面和远离所述底板的第二表面;所述第一表面在所述底板上正投影的边界包围所述第二表面在所述底板上正投影的边界,所述第一表面在所述底板上正投影的边界和所述第二表面在所述底板上正投影的边界之间的间距a的范围为0<a≤4.5um。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 及其 制备 方法 掩膜板 | ||
【主权项】:
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H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
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