[发明专利]一种基板及其制备方法、掩膜板

说明书

本发明实施例提供一种基板及其制备方法、掩膜板，涉及显示技术领域，可以解决隔垫物的第二表面与膜层的接触面积较小的问题。该基板包括多个发光区和用于界定所述发光区的非发光区；所述基板包括底板以及设置在所述底板上，且位于所述非发光区的隔垫物；所述隔垫物包括靠近所述底板的第一表面和远离所述底板的第二表面；所述第一表面在所述底板上正投影的边界包围所述第二表面在所述底板上正投影的边界，所述第一表面在所述底板上正投影的边界和所述第二表面在所述底板上正投影的边界之间的间距a的范围为0＜a≤4.5um。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板及其制备方法、掩膜板。

背景技术

目前，随着显示技术的快速发展，显示器的分辨率越来越高。显示器的分辨率越高，显示器的显示区中发光区的数量就会较多，从而使得发光区的面积增加。然而，在显示器的显示区尺寸不变的情况下，由于发光区的面积增加，因而非发光区的面积便会减小。

其中，显示器中的隔垫物设置在非发光区，用于起支撑作用，隔垫物的上表面和下表面与膜层或基板的接触面积越大，支撑强度越大，接触面积越小，支撑强度越小。

发明内容

本发明的实施例提供一种基板及其制备方法、掩膜板，可以解决隔垫物的第二表面与膜层的接触面积较小的问题。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

第一方面，提供一种基板，包括多个发光区和用于界定多个所述发光区的非发光区；所述基板包括底板以及设置在所述底板上，且位于所述非发光区的隔垫物；所述隔垫物包括靠近所述底板的第一表面和远离所述底板的第二表面；所述第一表面在所述底板上正投影的边界包围所述第二表面在所述底板上正投影的边界，所述第一表面在所述底板上正投影的边界和所述第二表面在所述底板上正投影的边界之间的间距a的范围为0＜a≤4.5um。

在一些实施例中，所述第一表面在所述底板上正投影的边界和所述第二表面在所述底板上正投影的边界之间的间距a的范围为3um≤a≤3.5um。

在一些实施例中，所述第一表面的形状和所述第二表面的形状相同，所述第一表面在所述底板上正投影的边界和所述第二表面在所述底板上正投影的边界之间的间距处处相等。

在一些实施例中，所述第一表面和所述第二表面的形状为圆形、四边形、六边形或八边形中的一种。

第二方面，提供一种掩膜板，包括第一构图区、第二构图区以及设置在所述第一构图区和所述第二构图区之间的间隔区；所述第二构图区和所述间隔区均为环状，所述第二构图区包围所述第一构图区；其中，所述第一构图区和所述第二构图区均为透光区，所述间隔区为非透光区；或者，所述第一构图区和所述第二构图区均为非透光区，所述间隔区为透光区。

在一些实施例中，所述第二构图区边界的形状与所述第一构图区的形状相同；所述间隔区的宽度处处相等；所述第二构图区的宽度处处相等。

在一些实施例中，所述第二构图区的宽度H₂为：其中，θ为曝光机的曝光角度，H₁为所述间隔区的宽度，L为所述第一构图区的最大尺寸，D为待形成图案的最大尺寸，T为所述掩膜板与待形成图案的基板之间的距离。

在一些实施例中，所述间隔区的宽度大于或等于曝光机的分辨率。

在一些实施例中，所述第二构图区的宽度小于或等于曝光机的分辨率。

在一些实施例中，所述第一构图区的形状为圆形、四边形、六边形或八边形中的一种。

第三方面，提供一种基板的制备方法，包括：在底板上形成光刻胶薄膜；利用上述的掩膜板对所述光刻胶薄膜进行掩膜曝光，显影后形成隔垫物。