[发明专利]一种非对称异质结碳化硅槽型场氧功率MOS器件在审

专利信息
申请号: 201911127582.9 申请日: 2019-11-18
公开(公告)号: CN110828555A 公开(公告)日: 2020-02-21
发明(设计)人: 胡盛东;安俊杰 申请(专利权)人: 重庆大学;安俊杰
主分类号: H01L29/417 分类号: H01L29/417;H01L29/06;H01L29/423;H01L29/78;H01L27/06
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 赵荣之
地址: 400044 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明属于半导体功率器件领域,涉及一种非对称异质结碳化硅槽型场氧功率MOS器件,包括依次线性布置的漏极金属、N型衬底层、N型漂移区、N型载流子扩散区、P型沟道层、源极金属;还包括与源极金属连通的槽型栅电极、槽型源电极以及N型源区;所述槽型源电极包括源极P型多晶硅;所述槽型栅电极和槽型源电极上设有P保护层;所述源极P型多晶硅与N型载流子扩散区采用异质结二极管结构。本发明在槽型栅电极和槽型源电极上分别使用P保护层的同时,在槽型源电极中布置源极P型多晶硅,能有效降低器件的导通压降、增加器件的击穿电压以及降低器件的开关损耗。
搜索关键词: 一种 对称 异质结 碳化硅 槽型场氧 功率 mos 器件
【主权项】:
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