[发明专利]开口的侧壁上的粗糙度的减小有效
| 申请号： | 201911072557.5 | 申请日： | 2019-11-05 |
| 公开（公告）号： | CN111489967B | 公开（公告）日： | 2023-06-27 |
| 发明（设计）人： | C·J·甘比;D·D·施里拉姆;I·V·瓦西里耶沃 | 申请（专利权）人： | 美光科技公司 |
| 主分类号： | H01L21/311 | 分类号： | H01L21/311;H10B12/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 王龙 |
| 地址： | 美国爱*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明描述与减小开口的侧壁上的粗糙度相关的方法、设备及系统。一种实例方法包含在第一硅酸盐材料中的开口的第一侧壁及上覆第二硅酸盐材料中的所述开口的第二侧壁上形成衬里材料，其中所述衬里材料经形成到覆盖所述第一侧壁上的延伸到所述开口中的粗糙度的厚度。所述实例方法进一步包含利用非选择性蚀刻化学物质从所述开口的所述第一侧壁及所述开口的所述第二侧壁移除所述衬里材料以减小所述第一侧壁上的所述粗糙度。 | ||
| 搜索关键词： | 开口 侧壁 粗糙 减小 | ||
【主权项】：
暂无信息
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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