[发明专利]中介层电路、基材上覆晶圆上覆晶片电路与利用介面电路的方法有效

专利信息
申请号: 201911063293.7 申请日: 2019-10-31
公开(公告)号: CN111128955B 公开(公告)日: 2022-03-01
发明(设计)人: 林亮臣;张仕承 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L23/522 分类号: H01L23/522;H01L23/525
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 徐金国
地址: 中国台湾新竹市*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种中介层电路、基材上覆晶圆上覆晶片电路与利用介面电路的方法。中介层电路包含基材及设置在基材的顶部上的介电层。中介层电路亦包含二层或以上的连接层,其是包含设置在介电层的不同深度中的第一连接层及第二连接层。中介层电路包含保险丝,其是设置在第一连接层内。第一连接层耦合至第一电源节点,且第二连接层耦合至第一接地节点。中介层电路还包含与保险丝串联的第一电容,且是连接在第一连接层及第二连接层之间。中介层电路亦包含在介电层的顶部上的第一微凸块、第二微凸块及第三微凸块,以使保险丝是耦合至第一微凸块及第二微凸块之间,而第一电容是耦合至第二微凸块及第三微凸块之间。
搜索关键词: 中介 电路 基材 上覆晶圆上覆 晶片 利用 介面 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201911063293.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top