[发明专利]用于输送前体材料的容器和方法在审
申请号: | 201910951469.6 | 申请日: | 2016-04-18 |
公开(公告)号: | CN110551989A | 公开(公告)日: | 2019-12-10 |
发明(设计)人: | C·M·伯特彻;T·A·斯泰德尔;S·V·伊万诺夫 | 申请(专利权)人: | 弗萨姆材料美国有限责任公司 |
主分类号: | C23C16/448 | 分类号: | C23C16/448;C23C16/455;C23C16/08;C23C16/16;C23C16/18 |
代理公司: | 11256 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 吴亦华;黄海波 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 本文公开了一种容器,其用于利用载气从包含在所述容器内的前体材料输送含有前体的流体流。所述容器限定分段为上空间和下空间的内部空间,所述上空间与所述下空间流体连通,所述下空间包含基本上所有所述前体材料并通过分隔体与所述上空间分隔开。所述容器包括从入口端口延伸通过所述分隔体、具有远端并且沿所述容器的底部内壁延伸的扩散管,所述远端具有多个形成于其中的开口。 | ||
搜索关键词: | 上空间 下空间 前体材料 分隔体 远端 底部内壁 流体连通 入口端口 扩散管 流体流 延伸 前体 载气 分隔 分段 开口 | ||
【主权项】:
1.一种容器,其用于利用载气从包含在所述容器内的前体材料输送含有前体的流体流,所述容器包含:/n分段为上空间和下空间的内部空间,所述下空间包含基本上所有所述前体材料;/n限定所述上空间的至少一部分的盖子;/n具有上端的侧壁,该上端包含上边缘和上开口,其中所述上边缘的至少一部分接触所述盖子;/n限定所述下空间的一部分的基部,所述基部包括内部底表面,所述内部底表面限定所述下空间的下端,所述内部底表面具有内部底表面形状;/n位于所述侧壁的上端处的分隔体,所述分隔体插置于所述盖子和所述侧壁之间并且跨越所述上开口,所述分隔体由多孔材料形成并且具有形成于其中的第一孔隙;/n入口,其穿过所述盖子并与所述内部空间流体连通,所述入口具有从所述盖子延伸至所述分隔体的体部,所述体部、所述分隔体和所述盖子限定在所述体部之外、所述盖子之内以及所述分隔体之上的出口腔室;/n扩散管,其具有与所述入口流体连通的近端以及位于所述下空间内的远端,所述远端包含喷嘴部分,所述喷嘴部分具有多个形成于其中的开口以及具有喷嘴部分形状;以及/n出口,其穿过所述盖子并与所述内部空间流体连通,所述出口具有至少一个开口,所述至少一个开口各自位于所述出口腔室内;/n其中所述分隔体和入口在操作上配置为防止除通过所述分隔体之外的从所述下空间到所述出口腔室中的流连通。/n
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的