[发明专利]基板支撑单元，薄膜沉积设备及基板处理设备在审
| 申请号： | 201910920881.1 | 申请日： | 2019-09-27 |
| 公开（公告）号： | CN111005007A | 公开（公告）日： | 2020-04-14 |
| 发明（设计）人： | 严基喆;韩政勋;金头汉;韩镕圭 | 申请（专利权）人： | ASMIP私人控股有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C23C16/455;C23C16/509;H01J37/32;H01L21/687 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王增强 |
| 地址： | 荷兰阿*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种用于在包括图案结构的基板上进行薄膜沉积的基板支撑单元以及包括该基板支撑单元的薄膜沉积设备，所述板支撑单元包括加热器；RF电极；连接到加热器的第一杆；连接到RF电极的第二杆；以及RF屏蔽，其与第二杆间隔开，设置成围绕第二杆，并沿第二杆的延伸方向延伸。 | ||
| 搜索关键词： | 支撑 单元 薄膜 沉积 设备 处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
