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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]衬底处理方法和使用该方法的衬底处理设备-CN202310099625.7在审
发明人：金头汉;韩镕圭;严基喆;金大渊 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2023-02-10 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种能够执行稳定等离子体处理的衬底处理方法，包括：使用衬底处理设备在第一等离子体气氛下供应源气体，该衬底处理设备包括发电单元、第一反应器以及在发电单元和第一反应器之间的匹配网络；吹扫源气体；在第二等离子体气氛下供应反应气体；以及吹扫反应气体，其中在吹扫源气体期间，执行将包括在匹配网络中的可变电容器设置为第一值，并且在吹扫反应气体期间，执行将可变电容器设置为第二值。
衬底处理方法使用设备

[发明专利]薄膜沉积方法-CN201910857144.1有效
发明人： 严基喆;韩政勋;金头汉;韩镕圭;柳太熙;林完奎;高东铉 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2019-09-11 - 公布日： 2022-07-19 - 主分类号： C23C16/455 文献下载
摘要：一种相对于包含图案结构的基板的薄膜沉积方法包括：通过经设置在基板下方的组件供应RF功率；在基板的暴露于反应空间的暴露表面上形成电位；使用所述电位，在反应空间中将活性物质移动到暴露表面；以及在基板的暴露表面上形成包含活性物质成分的薄膜。
薄膜沉积方法

[发明专利]基板支撑单元-CN202210197770.4在审
发明人： 严基喆;韩政勋;金头汉;韩镕圭;柳太熙;林完奎;高东铉 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2019-09-11 - 公布日： 2022-06-24 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：一种基板支撑单元，在该基板支撑单元中，基板安置在上部上，该基板支撑单元包括：加热器；射频电极；连接到加热器的第一杆；连接到射频电极的第二杆；射频屏蔽，该射频屏蔽与第二杆间隔开，以在所述射频屏蔽和所述第二杆之间具有空间，所述射频屏蔽设置为围绕第二杆，并沿第二杆的延伸方向延伸；以及第一绝缘构件，所述第一绝缘构件设置在所述空间内，所述第一绝缘构件被构造成固定所述第二杆和所述射频屏蔽之间的相对位置关系，其中，所述射频屏蔽包括连接到地的金属材料，且其中，所述金属材料被构造成防止通过所述第二杆流到所述第一杆的RF电流的串扰效果。
支撑单元

[发明专利]衬底处理设备-CN202110884783.4在审
发明人： 严基喆;S.J.全;金头汉;S.Y.李 -专利权人： ASM IP私人控股有限公司
申请日： 2021-08-03 - 公布日： 2022-02-18 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种能够防止下电极的电阻由于热变形而增加的衬底处理设备，包括：电极；以及接触电极的杆，其中杆包括具有第一热膨胀系数的第一部分；以及具有小于第一热膨胀系数的第二热膨胀系数的第二部分。
衬底处理设备

[发明专利]基板处理设备-CN202110176264.2在审
发明人： 严基喆;韩镕圭;全尚珍;金头汉;李相烨 -专利权人： ASMIP私人控股有限公司
申请日： 2021-02-09 - 公布日： 2021-09-14 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：一种能够消除反应器之间的信号干扰的基板处理设备包括：第一反应器；与第一反应器相邻的第二反应器；以及功率产生器，其配置成向第一反应器供应第一功率并且向第二反应器供应第二功率。功率产生器还配置为使第一功率和第二功率的相位同步。
处理设备

[发明专利]衬底处理设备-CN201810994464.7有效
发明人： 严基喆;张显秀;李政镐;韩镕圭 -专利权人： ASM知识产权私人控股有限公司
申请日： 2018-08-29 - 公布日： 2021-09-07 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体供应单元及一种包括所述等离子体供应单元的衬底处理设备，所述等离子体供应单元包括：第一导电部分；第二导电部分，其至少一部分延伸成与所述第一导电部分交叠；以及接地屏蔽物，位于所述第一导电部分与所述第二导电部分之间。
衬底处理设备

[发明专利]基板支撑单元，薄膜沉积设备及基板处理设备-CN201910920881.1在审
发明人： 严基喆;韩政勋;金头汉;韩镕圭 -专利权人： ASMIP私人控股有限公司
申请日： 2019-09-27 - 公布日： 2020-04-14 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：一种用于在包括图案结构的基板上进行薄膜沉积的基板支撑单元以及包括该基板支撑单元的薄膜沉积设备，所述板支撑单元包括加热器；RF电极；连接到加热器的第一杆；连接到RF电极的第二杆；以及RF屏蔽，其与第二杆间隔开，设置成围绕第二杆，并沿第二杆的延伸方向延伸。
支撑单元薄膜沉积设备处理

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