[发明专利]阵列基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201910788560.0 申请日: 2019-08-26
公开(公告)号: CN110620119A 公开(公告)日: 2019-12-27
发明(设计)人: 罗成志 申请(专利权)人: 武汉华星光电技术有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1368;G02F1/1362
代理公司: 44300 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供了一种阵列基板及其制备方法,通过在基板上设计混合TFT,在显示驱动区设置氧化物TFT且在非显示驱动区设置低温多晶硅TFT,这样既能提高LCD栅极驱动电路中的驱动电流,并且降低LCD显示像素驱动时的漏电流。在制备混合TFT的结构时,通过将显示驱动区域的第二有源层设于第一有源层上,且中间设置半导体绝缘层,进而在进行刻蚀的时候,可以通过一个光罩刻蚀出第一有源层与第二有源层的图案,进而可以降低制备成本。
搜索关键词: 源层 显示驱动 制备 刻蚀 低温多晶硅TFT 半导体绝缘层 栅极驱动电路 驱动电流 像素驱动 阵列基板 中间设置 漏电流 氧化物 光罩 基板 图案
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,具有显示驱动区以及非显示驱动区,所述阵列基板包括:/n基板;/n缓冲层,设于所述基板上;/n第一有源层,设于所述缓冲层远离所述基板的一侧;/n半导体绝缘层,设于所述显示驱动区的第一有源层上;/n第二有源层,设于所述显示驱动区的半导体绝缘层上;/n栅极绝缘层,设于所述第一有源层、所述基板以及所述第二有源层上;栅极,设于所述栅极绝缘层上;/n层间绝缘层,设于所述栅极以及所述栅极绝缘层上;/n源漏极金属层,设于所述层间绝缘层上;/n其中,在所述显示驱动区,所述源漏极金属层通过第一通孔连接所述第二有源层;在所述非显示驱动区,所述源漏极金属层通过第二通孔连接所述第一有源层。/n
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