[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201910763909.5 申请日: 2019-08-19
公开(公告)号: CN110429061B 公开(公告)日: 2022-12-20
发明(设计)人: 钱海蛟;姜涛;高锦成;陈亮 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方显示技术有限公司
主分类号: H01L21/77 分类号: H01L21/77;H01L27/12;G03F7/16
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;胡影
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种显示基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,为解决通过一次构图工艺同时形成层叠设置的两层功能图形时,无法实现上层功能图形和下层功能图形精确的尺寸对应关系,导致对显示基板的工作性能产生影响的问题。所述制作方法包括:在基底上依次形成层叠设置的第一过渡功能图形、第二过渡功能图形和光刻胶图形,光刻胶图形覆盖第二过渡功能图形的边缘区域;对光刻胶图形进行烘烤,使部分光刻胶图形覆盖第二过渡功能图形的侧表面;以烘烤后的光刻胶图形为掩膜,对第二过渡功能图形进行湿法刻蚀,形成第二目标功能图形,并对第一过渡功能图形进行刻蚀,形成第一目标功能图形。本发明提供的制作方法用于制作显示基板。
搜索关键词: 一种 显示 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
1.一种显示基板的制作方法,其特征在于,包括:在基底上依次形成层叠设置的第一过渡功能图形、第二过渡功能图形和光刻胶图形,所述光刻胶图形覆盖所述第二过渡功能图形的边缘区域;对所述光刻胶图形进行烘烤,使部分所述光刻胶图形流动至所述第二过渡功能图形的侧面,并覆盖所述第二过渡功能图形的侧表面;以烘烤后的光刻胶图形为掩膜,对所述第二过渡功能图形进行湿法刻蚀,形成第二目标功能图形,并对所述第一过渡功能图形进行刻蚀,形成第一目标功能图形。
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