[发明专利]蚀刻剂组合物和使用其制造布线基板的方法有效
申请号: | 201910660021.9 | 申请日: | 2019-07-22 |
公开(公告)号: | CN110747473B | 公开(公告)日: | 2022-12-16 |
发明(设计)人: | 金俸均;金镇爽;沈承辅;崔新革;金承熙;李栋熙;鞠仁说;金范洙;金相泰;朴英哲;尹暎晋;林大成 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司;东友精细化工有限公司 |
主分类号: | C07C229/00 | 分类号: | C07C229/00 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 王东贤;朴圣洁 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及蚀刻剂组合物以及制造布线基板的方法。蚀刻剂组合物可包括:过氧硫酸盐、环胺化合物、包括羧基的第一两性化合物和包括砜基的第二两性化合物,其中第二两性化合物可不同于第一两性化合物。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻 组合 使用 制造 布线 方法 | ||
【主权项】:
1.一种蚀刻剂组合物,包括:/n过氧硫酸盐;/n环胺化合物;/n包括羧基的第一两性化合物;和/n包括砜基的第二两性化合物,/n其中,所述第二两性化合物不同于所述第一两性化合物。/n
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