[发明专利]薄膜晶体管衬底、制造其的方法以及包括其的显示装置在审
| 申请号: | 201910408531.7 | 申请日: | 2019-05-16 |
| 公开(公告)号: | CN110504276A | 公开(公告)日: | 2019-11-26 |
| 发明(设计)人: | 郑宇镐;成硕济;权世明;金允镐;李炳周 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/12 | 分类号: | H01L27/12;H01L21/77;H01L27/32 |
| 代理公司: | 11641 北京金宏来专利代理事务所(特殊普通合伙) | 代理人: | 杜正国;苗彩娟<国际申请>=<国际公布> |
| 地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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| 摘要: | 公开了薄膜晶体管衬底、制造薄膜晶体管衬底的方法以及包括薄膜晶体管衬底的显示装置。所述薄膜晶体管衬底包括第一有源图案、第一栅极绝缘层、第一栅电极、第二栅电极、第二栅极绝缘层、源极连接电极、漏极连接电极、第二有源图案、第一绝缘中间层、第二绝缘中间层、第三栅极绝缘层、第三栅电极、第一源电极、第一漏电极、第二源电极和第二漏电极。第二栅电极位于覆盖第一栅极的第二栅极绝缘层上。源极连接电极与第一有源图案的源区接触。漏极连接电极与第一有源图案的漏区接触。第二有源图案位于覆盖第二栅电极的第一绝缘中间层上。第三栅极绝缘层覆盖第二有源图案。第三栅电极布置在第三栅极绝缘层上。第二绝缘中间层覆盖第三栅电极。第一源电极、第一漏电极、第二源电极和第二漏电极布置在第二绝缘中间层上。第一源电极和第一漏电极与源极连接电极和漏极连接电极接触。第二源电极和第二漏电极与第二有源图案的源区和漏区接触。 | ||
| 搜索关键词: | 源图案 栅电极 栅极绝缘层 漏电极 源电极 绝缘中间层 薄膜晶体管 衬底 连接电极 源极连接 电极 漏极 覆盖 漏区 显示装置 源区接触 源区 制造 | ||
【主权项】:
1.薄膜晶体管衬底,包括:/n基础衬底;/n第一有源图案,所述第一有源图案布置在所述基础衬底上;/n第一栅极绝缘层,所述第一栅极绝缘层至少部分地覆盖所述第一有源图案;/n第一栅电极,所述第一栅电极布置在所述第一栅极绝缘层上,所述第一栅电极与所述第一有源图案形成第一薄膜晶体管;/n第二栅极绝缘层,所述第二栅极绝缘层至少部分地覆盖所述第一栅电极;/n第二栅电极,所述第二栅电极布置在所述第二栅极绝缘层上,所述第二栅电极至少部分地与所述第一栅电极重叠;/n源极连接电极,所述源极连接电极与所述第一有源图案的源区接触;/n漏极连接电极,所述漏极连接电极与所述第一有源图案的漏区接触;/n第一绝缘中间层,所述第一绝缘中间层至少部分地覆盖所述第二栅电极;/n第二有源图案,所述第二有源图案布置在所述第一绝缘中间层上;/n第三栅极绝缘层,所述第三栅极绝缘层至少部分地覆盖所述第二有源图案;/n第三栅电极,所述第三栅电极布置在所述第三栅极绝缘层上,所述第三栅电极与所述第二有源图案形成第二薄膜晶体管;/n第二绝缘中间层,所述第二绝缘中间层至少部分地覆盖所述第三栅电极;以及/n第一源电极、第一漏电极、第二源电极和第二漏电极,所述第一源电极、所述第一漏电极、所述第二源电极和所述第二漏电极各自布置在所述第二绝缘中间层上,所述第一源电极和所述第一漏电极分别与所述源极连接电极和所述漏极连接电极接触,并且所述第二源电极和所述第二漏电极分别与所述第二有源图案的源区和漏区接触。/n
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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