[发明专利]一种透明OLED显示器制作方法及显示器

摘要

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种透明OLED显示器制作方法及显示器,其中所述方法包括如下步骤：在有源层上形成蚀刻阻挡层，并在蚀刻阻挡层上蚀刻出连接源极/漏级电路的ES过孔；在蚀刻阻挡层上刻画源极/漏级电路；在源极/漏级电路上形成钝化层，并蚀刻出显露漏级电路表面的IP过孔；在钝化层上形成有机平坦层，并在IP过孔处曝光显影出显露漏级电路表面的OP过孔；在有机平坦层上形成ITO透明电极并图案化，且ITO透明电极依次经过IP过孔、OP过孔连接漏级电路；通过黄光制程透过半色掩膜板对有机平坦层曝光显影，同时形成透射窗口通孔、画素开口和隔垫层。本方案中能够减少光罩布设，优化显示器制程工艺的同时降低生产成本，进而提高产品的竞争力。

主权项

1.一种透明OLED显示器制作方法，其特征在于，包括如下步骤：在基板上形成栅极并制作栅极驱动电路；在栅极上形成栅极绝缘层；在栅极绝缘层上形成有源层；在有源层上形成蚀刻阻挡层，并在蚀刻阻挡层上蚀刻出连接源极/漏级电路的ES过孔；在蚀刻阻挡层上刻画源极/漏级电路；在源极/漏级电路上形成钝化层，并蚀刻出显露漏级电路表面的IP过孔；在钝化层上形成有机平坦层，并在IP过孔处曝光显影出显露漏级电路表面的OP过孔；在有机平坦层上形成ITO透明电极并图案化，且ITO透明电极依次经过IP过孔、OP过孔连接漏级电路；通过黄光制程透过半色掩膜板对有机平坦层曝光显影，同时形成透射窗口通孔、画素开口和隔垫层，其中所述半色掩膜板具有三种不同光线透过率。