[发明专利]包含二维半导电性材料的纳米片场效晶体管在审

专利信息
申请号: 201910354743.1 申请日: 2019-04-29
公开(公告)号: CN110556376A 公开(公告)日: 2019-12-10
发明(设计)人: 朱利安·弗罗吉尔;谢瑞龙;尼可拉斯·罗贝特;程慷果;李俊涛 申请(专利权)人: 格芯公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234;H01L29/06;H01L29/16;H01L29/24
代理公司: 11314 北京戈程知识产权代理有限公司 代理人: 程伟;王锦阳
地址: 英属开曼群*** 国省代码: 开曼群岛;KY
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明涉及包含二维半导电性材料的纳米片场效晶体管,其揭示用于场效晶体管的结构、以及形成用于场效晶体管的结构的方法。多个沟道层是设置于层堆叠中,并且源极/漏极区与该多个沟道层连接。栅极结构包括多个区段,所述区段分别围绕该多个沟道层。该多个沟道层含有二维半导电性材料。
搜索关键词: 沟道层 半导电性材料 场效晶体管 二维 源极/漏极区 栅极结构 层堆叠 晶体管
【主权项】:
1.一种用于场效晶体管的结构,该结构包含:/n多个沟道层,设置于层堆叠中;/n源极/漏极区,与该多个沟道层连接;以及/n栅极结构,包括多个区段,所述区段分别围绕该多个沟道层,/n其中,该多个沟道层是由二维半导电性材料所构成。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于格芯公司,未经格芯公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201910354743.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top