[发明专利]一种碳化硅单晶及其PVT长晶方法有效

专利信息
申请号: 201910344555.0 申请日: 2019-04-26
公开(公告)号: CN110067026B 公开(公告)日: 2020-05-19
发明(设计)人: 刘星;刘鹏飞;窦文涛;梁庆瑞;梁晓亮;张红岩;刘圆圆 申请(专利权)人: 山东天岳先进材料科技有限公司
主分类号: C30B29/36 分类号: C30B29/36;C30B23/06
代理公司: 济南千慧专利事务所(普通合伙企业) 37232 代理人: 赵长林
地址: 250100 山东省济南市高新区*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 本申请涉及一种碳化硅单晶及其PVT长晶方法,属于晶体生长领域。该碳化硅单晶的PVT长晶方法包括下述步骤:提供一长晶装置,该长晶装置包括重量传感器、坩埚和在坩埚内可升降的装料部,所述装料部用于装载碳化硅原料,所述重量传感器用于检测装料部内碳化硅原料重量;将装料部装载碳化硅粉料后进行长晶,长晶包括第一长晶阶段和第二长晶阶段,调整装料部的不同部分置于坩埚内的高温区进行长晶。该PVT长晶方法可精确自动控制装料部在热场中的位置,碳化硅单晶长晶环境稳定,生长的碳化硅晶体的质量高,可充分挥发碳化硅长晶原料,提高了长晶原料的利用率,节约了生产成本。
搜索关键词: 一种 碳化硅 及其 pvt 方法
【主权项】:
1.一种碳化硅单晶的PVT长晶方法,其特征在于,包括下述步骤:提供一长晶装置,该长晶装置包括籽晶、坩埚和在坩埚内可向籽晶方向升降的装料部,所述装料部用于装载碳化硅原料;将装料部装载碳化硅粉料后进行长晶制备碳化硅单晶,所述的长晶步骤包括:第一长晶阶段:装料部的1/2高度以下的任一部分置于坩埚内的高温区,此阶段碳化硅原料升华率小于第一升华率;第二长晶阶段:当碳化硅原料升华率为第一升华率时,降低装料部以使装料部受高温区加热的部分上移,当碳化硅原料升华率为第二升华率时,停止降低装料部,降温冷却,即制得所述的碳化硅单晶;其中,所述第一升华率为30%‑60%,所述第二升华率为70%‑90%。
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