[发明专利]显示装置及显示装置的制备方法有效
| 申请号： | 201910310840.0 | 申请日： | 2019-04-17 |
| 公开（公告）号： | CN109979947B | 公开（公告）日： | 2021-03-16 |
| 发明（设计）人： | 李源规;文国哲;李俊峰 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | H01L27/12 | 分类号： | H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司： | 北京布瑞知识产权代理有限公司 11505 | 代理人： | 孟潭 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本申请提供了一种显示装置及显示装置的制备方法，涉及显示技术领域。该显示装置包括：预设弯折区，包括基材层和设置在所述基材层一侧的第一刻蚀阻挡层；与所述预设弯折区连接的非弯折区，包括层叠设置的所述基材层、所述第一刻蚀阻挡层和第一无机材料层；以及设置于所述第一刻蚀阻挡层和所述第一无机材料层表面的金属走线层。本申请的实施例通过在第一无机材料层和基材层之间设置第一刻蚀阻挡层，从而避免在刻蚀第一无机材料层的过程中，位于第一无机材料层下方的基材层被过度刻蚀，进而避免刻蚀室污染。 | ||
| 搜索关键词： | 显示装置 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种显示装置，其特征在于，包括：预设弯折区，包括基材层和设置在所述基材层一侧的第一刻蚀阻挡层；与所述预设弯折区连接的非弯折区，包括层叠设置的所述基材层、所述第一刻蚀阻挡层和第一无机材料层；以及设置于所述第一刻蚀阻挡层和所述第一无机材料层表面的金属走线层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的；包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的；包括有热磁组件的
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
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