[发明专利]射频线圈、工艺腔室和半导体处理设备在审
| 申请号： | 201910257965.1 | 申请日： | 2019-04-01 |
| 公开（公告）号： | CN111769032A | 公开（公告）日： | 2020-10-13 |
| 发明（设计）人： | 杨光;陈国动 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人： | 彭瑞欣;张天舒 |
| 地址： | 100176 北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种射频线圈、工艺腔室和半导体处理设备。射频线圈包括线圈本体和线圈姿态调整部件；所述线圈姿态调整部件与所述线圈本体连接，用于调整所述线圈本体所在的平面与预设基准平面之间的角度。这样，在工艺腔室结构不对称时，可以通过所设置的可伸缩连接件，调整线圈本体的倾斜角度，从而可以改变等离子体分布实现对刻蚀工艺补偿优化，进而可以提高晶圆刻蚀均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 射频 线圈 工艺 半导体 处理 设备 | ||
【主权项】：
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