[发明专利]射频线圈、工艺腔室和半导体处理设备

权利要求书

1.一种射频线圈，其特征在于，所述射频线圈包括线圈本体和线圈姿态调整部件；所述线圈姿态调整部件与所述线圈本体连接，用于调整所述线圈本体所在的平面与预设基准平面之间的角度。

2.根据权利要求1所述的射频线圈，其特征在于，所述线圈姿态调整部件包括与所述线圈本体相对设置的支架以及夹设在所述线圈本体和所述支架之间的若干个可伸缩连接件；其中，

每个所述可伸缩连接件的两端分别与所述线圈本体和所述支架连接，以当至少一个所述可伸缩连接件伸长或收缩时调整所述线圈本体所在的平面与预设基准平面之间的角度。

3.根据权利要求2所述的射频线圈，其特征在于，所述若干个可伸缩连接件分为两组，分别为第一组和第二组，每组均包括多个所述可伸缩连接件；并且，

所述第一组中的可伸缩连接件沿X轴方向间隔分布，所述第二组中的可伸缩连接件沿Y轴方向间隔分布。

4.根据权利要求2所述的射频线圈，其特征在于，所述可伸缩连接件采用可伸缩杆，所述可伸缩杆用于与驱动电机连接，以在驱动电机的驱动下伸长或收缩。

5.根据权利要求4所述的射频线圈，其特征在于，所述驱动电机采用微型步进电机。

6.根据权利要求2至5中任意一项所述的射频线圈，其特征在于，所述射频线圈为平面螺旋线圈。

7.根据权利要求6所述的射频线圈，其特征在于，所述支架为环形支架，且所述环形支架的直径与所述平面螺旋线圈的外径相同。

8.根据权利要求2至5中任意一项所述的射频线圈，其特征在于，所述线圈本体沿其周向划分为若干个子线圈本体，所述支架为环形支架，所述环形支架沿其周向划分为与所述子线圈本体一一对应的若干个子环形支架，并且，

每个所述子环形支架与所述子线圈本体之间均设置有多个所述可伸缩连接件。

9.一种工艺腔室，所述工艺腔室包括至少一个射频线圈，其特征在于，至少一个所述射频线圈采用权利要求1至8中任意一项所述的射频线圈。

10.根据权利要求9所述的工艺腔室，其特征在于，所述工艺腔室包括两个所述射频线圈，分别为相互嵌套的内线圈和外线圈，所述内线圈和所述外线圈均采用权利要求1至8中任意一项所述的射频线圈。

11.一种半导体处理设备，其特征在于，包括权利要求9或10所述的工艺腔室。