[实用新型]半导体芯片、半导体晶圆有效

专利信息
申请号: 201822268841.7 申请日: 2018-12-29
公开(公告)号: CN209232780U 公开(公告)日: 2019-08-09
发明(设计)人: 吴星星;潘盼 申请(专利权)人: 苏州能讯高能半导体有限公司
主分类号: H01L23/58 分类号: H01L23/58;H01L29/78
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 代理人: 刘曾
地址: 215000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 本申请提供了一种半导体芯片、半导体晶圆,其中半导体芯片包括基底,所述基底包括相对的第一侧面及第二侧面;设置于所述第一侧面的所述半导体芯片的源极;设置在所述基底上的通孔,所述通孔的设置位置与所述源极的位置对应,所述通孔从所述第二侧面贯穿至所述第一侧面;基于所述第二侧面形成、并通过所述通孔与所述源极电性接触的种子金属层,基于所述种子金属层形成的背面金属层;所述半导体芯片两端各设置一定的距离不覆盖所述种子金属层。通过对半导体芯片两端的结构结构设计实现在便于芯片切割的同时,减少芯片背面的结构变形。
搜索关键词: 半导体芯片 侧面 通孔 种子金属层 基底 源极 半导体晶圆 背面金属层 电性接触 结构变形 结构结构 设置位置 芯片切割 芯片 贯穿 覆盖 申请
【主权项】:
1.一种半导体芯片,其特征在于,包括:基底,所述基底包括相对的第一侧面及第二侧面;设置于所述第一侧面的所述半导体芯片的源极;设置在所述基底上的通孔,所述通孔的设置位置与所述源极的位置对应,所述通孔从所述第二侧面贯穿至所述第一侧面;基于所述第二侧面形成、并通过所述通孔与所述源极电性接触的种子金属层,基于所述种子金属层形成的背面金属层;所述半导体芯片两端各设置一定的距离不覆盖所述种子金属层。
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