[实用新型]一种镀膜系统有效
申请号: | 201821116044.0 | 申请日: | 2018-07-13 |
公开(公告)号: | CN208649462U | 公开(公告)日: | 2019-03-26 |
发明(设计)人: | 马峥;张风港;张津燕 | 申请(专利权)人: | 君泰创新(北京)科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/54 | 分类号: | C23C16/54;C23C16/46;C23C16/40 |
代理公司: | 北京华夏泰和知识产权代理有限公司 11662 | 代理人: | 孟德栋 |
地址: | 100176 北京市大兴区亦*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本申请涉及薄膜太阳能生产技术领域,具体涉及一种镀膜系统。本申请提供的镀膜系统,能够支持对基板镀多个不同种类的膜层,以得到性能更好的具有复合膜层的基板;与现有的镀膜系统相比,本申请提供的镀膜系统在基板上制备多层膜层时基板不用从系统内取出,因此不会与外界大气接触破除真空并暴露大气,能够避免因膜层与空气接触氧化,导致膜层内产生杂质的问题发生,基板上的膜层质量更好;并且相邻两个工艺腔之间设有一个调温腔,通过调温腔调整基板的温度,使基板的温度满足下一个工艺腔制备温度的需求,减少了进入下一个反应腔中的温度调整时间,大大的提高了生产效率、提高产能。 | ||
搜索关键词: | 镀膜系统 基板 膜层 调温腔 工艺腔 制备 申请 空气接触氧化 薄膜太阳能 调整基板 多层膜层 复合膜层 生产技术 生产效率 外界大气 温度调整 对基板 反应腔 产能 时基 取出 暴露 | ||
【主权项】:
1.一种镀膜系统,其特征在于,所述镀膜系统包括:传输装置、多个工艺腔和相邻两个所述工艺腔之间设有的调温腔;其中,所述传输装置配置为将基板运输至所述工艺腔和所述调温腔内;每个所述工艺腔配置为通入各自对应的工艺气体以对所述基板进行镀膜;所述调温腔配置为将镀膜后的基板调温至下一个工艺腔对应的指定温度。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的