[实用新型]一种深紫外LED外延芯片封装结构有效

专利信息
申请号: 201820707357.7 申请日: 2018-05-11
公开(公告)号: CN208596699U 公开(公告)日: 2019-03-12
发明(设计)人: 何苗;杨思攀;王成民;王润;周海亮 申请(专利权)人: 广东工业大学
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/64;H01L33/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 罗满
地址: 510060 广东*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型公开了一种深紫外LED外延芯片封装结构包括穿过钝化绝缘层、导电薄膜接触层到重掺杂N型AlGaN层的第一凹槽和穿过钝化绝缘层、导电薄膜接触层到电流扩展层的第二凹槽,第一凹槽内、第二凹槽内设置有底部的第一金属层、第二金属层,侧壁的第一隔离层、第二隔离层,及填充的N型内部金属接触层和P型内部金属接触层,与设置在台面的N型电极和P型电极连接。通过在芯片内部刻蚀形成凹槽,减小了对发光区域的刻蚀以及损害,增大了有效发光面积;凹槽的设置增加了外延层内部的电流路径,起到了分流的作用,金属层以及内部金属接触层的设置缩短了传热路径,降低了热阻,提高了散热效率。
搜索关键词: 金属接触层 导电薄膜接触 钝化绝缘层 深紫外LED 封装结构 外延芯片 隔离层 刻蚀 穿过 有效发光面积 本实用新型 第二金属层 第一金属层 电流扩展层 传热路径 电流路径 发光区域 散热效率 金属层 外延层 重掺杂 侧壁 减小 热阻 填充 芯片 分流 损害
【主权项】:
1.一种深紫外LED外延芯片封装结构,其特征在于,包括蓝宝石衬底、依次设置基于所述蓝宝石衬底一侧的BN缓冲层、AlN层、AlN/AlGaN超晶格层、重掺杂N型AlGaN层、轻掺杂N型AlGaN层、AlGaN/AlGaN多量子阱有源区、P型AlGaN电子阻挡层、P型AlGaN过渡层、P型GaN接触层、电流扩展层、反射层、导电薄膜接触层以及设置在台面和侧壁的钝化绝缘层,还包括穿过所述钝化绝缘层、所述导电薄膜接触层到所述重掺杂N型AlGaN层的第一凹槽和穿过所述钝化绝缘层、所述导电薄膜接触层到所述电流扩展层的第二凹槽,所述第一凹槽内设置有底部的第一金属层、侧壁的第一隔离层以及填充的N型内部金属接触层,所述第一金属层通过所述N型内部金属接触层与设置在台面的N型电极连接,所述第二凹槽内设置有底部的第二金属层、侧壁的第二隔离层和填充的P型内部金属接触层,所述第二金属层通过所述P型内部金属接触层与设置在所述台面的P型电极连接。
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