[实用新型]一种氮化硼坩埚生产系统有效
| 申请号： | 201820470863.9 | 申请日： | 2018-04-04 |
| 公开（公告）号： | CN208167095U | 公开（公告）日： | 2018-11-30 |
| 发明（设计）人： | 何军舫;王军勇 | 申请（专利权）人： | 博宇（朝阳）半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/34 | 分类号： | C23C16/34;C23C16/44;C23C16/455;C23C16/52 |
| 代理公司： | 北京恒博知识产权代理有限公司 11528 | 代理人： | 范胜祥 |
| 地址： | 122300 *** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种氮化硼坩埚生产系统，包括：原料供给装置，供应生产所需原料气体；沉积炉，具有进气口和排气口，所述进气口设有进气头，所述进气头与所述原料供给装置通过送气管道连接，所述送气管道上设有调节原料流量的流量调节阀；废气处理装置，通过排气管道与所述排气口连接。本实用新型提供的氮化硼坩埚生产系统结构简单、占地面积小，生产出来的坩埚质量较好。 | ||
| 搜索关键词： | 氮化硼坩埚 生产系统 进气口 原料供给装置 本实用新型 送气管道 进气头 排气口 废气处理装置 流量调节阀 排气管道 原料流量 原料气体 沉积炉 坩埚 生产 | ||
【主权项】：
1.一种氮化硼坩埚生产系统，其特征在于，包括：原料供给装置，供应生产所需原料气体；沉积炉，具有进气口和排气口，所述进气口设有进气头，所述进气头与所述原料供给装置通过送气管道连接，所述送气管道上设有调节原料流量的流量调节阀；废气处理装置，通过排气管道与所述排气口连接。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
