[发明专利]将半导体装置从带去除的设备、系统和方法有效
申请号: | 201811632431.4 | 申请日: | 2018-12-29 |
公开(公告)号: | CN110021539B | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | J·E·明尼克;B·P·沃兹;B·K·施特雷特;J·M·戴德里安 | 申请(专利权)人: | 美光科技公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/50 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 王龙 |
地址: | 美国爱*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本申请案涉及一种将半导体装置从带去除的设备、系统和方法。所述设备或系统包含安放在带与粘合层之间的囊状物,所述粘合层经配置以选择性地将所述带连接到半导体装置。所述囊状物包含一或多个腔室,其可选择性地展开,以将所述囊状物和粘合层的一部分移动远离所述带,这可使得能够去除所述半导体装置。流体到所述腔室中的每一者中的流动可选择性地展开所述腔室。所述腔室可具有大体上圆形的上部轮廓或大体上尖形的上部轮廓。可加热所述腔室内的材料,以展开所述腔室。多个导管可准许流体流动到所述腔室中。可将所述导管插入到所述囊状物中。所述腔室可在展开之后塌缩,以使得能够将半导体装置从所述带去除。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 去除 设备 系统 方法 | ||
【主权项】:
1.一种设备,其包括:带;粘合层,其经配置以选择性地将所述带连接到半导体装置;以及囊状物,其安放在所述带与所述粘合层之间,所述囊状物具有多个腔室,其经配置以选择性地展开,其中所述多个腔室的所述展开使所述囊状物和粘合层的若干部分移动远离所述带。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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