[发明专利]一种多功能金刚石薄膜的热丝化学气相沉积装置在审
申请号: | 201811482170.2 | 申请日: | 2018-12-05 |
公开(公告)号: | CN109371380A | 公开(公告)日: | 2019-02-22 |
发明(设计)人: | 刘鲁生;姜辛;黄楠 | 申请(专利权)人: | 中国科学院金属研究所 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/44;C23C16/52;C23C16/458 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 张志伟 |
地址: | 110016 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | 本发明涉及金刚石膜生长领域,尤其涉及一种多功能金刚石薄膜的热丝化学气相沉积装置。该装置主要包括:绝缘层一、导电层一、内孔工件、气体喷淋头、热丝一、气体喷淋环、热丝二、基片、导电层二、绝缘层二、反应腔体、外部气源、直流加热电源二、直流加热电源一、偏压电源一、偏压电源二、调速电机、抽真空系统、水冷样品台二、水冷样品台一、真空测控系统等。本发明既可以实现在工件内孔快速、均匀沉积金刚石薄膜,又可以实现在大面积基片上快速、均匀沉积金刚石薄膜,沉积时反应气体消耗量低,沉积过程中能测控热丝的温度、工件表面的温度和反应腔内的压强,能准确控制金刚石薄膜沉积各项主要工艺参数,工艺重复性好。 | ||
搜索关键词: | 金刚石薄膜 热丝 沉积 绝缘层 热丝化学气相沉积 直流加热电源 均匀沉积 偏压电源 导电层 样品台 水冷 反应气体消耗量 压强 金刚石膜生长 抽真空系统 大面积基片 工艺重复性 测控系统 调速电机 反应腔体 工件表面 工件内孔 内孔工件 外部气源 准确控制 反应腔 喷淋环 喷淋头 测控 | ||
【主权项】:
1.一种多功能金刚石薄膜的热丝化学气相沉积装置,其特征在于,该装置包括:绝缘层一、导电层一、内孔工件、气体喷淋头、热丝一、气体喷淋环、热丝二、基片、导电层二、绝缘层二、反应腔体、外部气源、水冷样品台一、水冷样品台二,具体结构如下:装置设有密闭的反应腔体,反应腔体内按功能分成上下两部分:上部分在内孔工件内部沉积金刚石薄膜,下部分在基片上沉积金刚石薄膜;反应腔体上部分的一侧设有气体喷淋头,气体喷淋头通过管路与外部气源连接;反应腔体内上部设有中空的水冷样品台一,水冷样品台一的中空部分由外向内依次设有绝缘层一、导电层一、内孔工件、热丝一;反应腔体内中部设有气体喷淋环,气体喷淋环通过管路与外部气源连接,气体喷淋环下方于反应腔体内的中下部,沿水平方向平行依次布置热丝二、基片、导电层二、绝缘层二、水冷样品台二,热丝二位于气体喷淋环下方与基片上方之间,基片、导电层二、绝缘层二叠放于水冷样品台二上。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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