专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]自适应化学沉积结构及化学沉积设备-CN202111236039.X在审
  • 王俊锋;袁明 - 广东鼎泰机器人科技有限公司
  • 2021-10-22 - 2022-01-11 - C23C16/27
  • 本发明公开了一种自适应化学沉积结构及化学沉积设备,其在工作时,反应腔体内的反应气体与反应,在工件上发生化学沉积,从而在工件上形成金刚石薄膜;随着多次反应后,的温度场会发生改变,或者,随着工件种类的更换,对温度场的需求也会发生改变;此时,能通过升降装置调节工件装夹单元相对于安装夹具的间距,即能根据的温度场令工件装夹单元朝靠近或远离第一壁面的方向移动,从而在的温度场改变的情况下,调整工件装夹单元的高度以匹配改变后的温度场,保证沉积效果,不需要清洗或更换安装夹具,即本发明的自适应化学沉积结构及化学沉积设备,能同时保证沉积效果和生产效率。
  • 自适应化学沉积结构设备
  • [发明专利]化学沉积过程中光发射谱的测试方法及其装置-CN201110265083.3无效
  • 刘丰珍;李天微;朱美芳 - 中国科学院研究生院
  • 2011-09-08 - 2012-05-02 - G01N21/66
  • 本发明涉及一种化学沉积过程中光发射谱的测试方法及其装置,属于光谱研究技术领域。采用射频激发,在化学沉积制备硅薄膜的相中产生发光基元,通过双狭缝、光纤、光谱仪来测量和分析射频激发热化学沉积的光发射谱,认识过程特征,指导薄膜制备。本发明装置发射的光谱,能够解释气压变化和气体流量等沉积参数的变化与微晶硅薄膜沉积速率和微结构的关系,是研究HWCVD过程的有效方法之一。本方法和装置操作简单,易于实现,数据重复可靠,可应用于太阳电池、微电子等领域中涉及到化学沉积的薄膜制备技术中。
  • 化学沉积过程发射测试方法及其装置
  • [实用新型]等离子增强化学沉积薄膜装置-CN200420053672.0无效
  • 石玉龙;闫凤英 - 青岛科技大学
  • 2004-09-13 - 2006-09-27 - C23C16/44
  • 本实用新型涉及一种等离子增强化学沉积薄膜的装置,属于化学沉积领域。本实用新型结合了等离子化学沉积化学沉积的优点,即在等离子化学沉积设备的两极之间再加上,提供分解反应气体所需的热能并且还可以加热样品台上的样品,且灯丝上不再直接施加偏压,可提高灯丝的使用寿命同时,在上电极中央设置进通孔,气体进入时可以进行预热活化有利于化学反应进行。在上电极下方设置带有均流孔的喷头,使反应气流分布均匀,易得到均匀的膜层。本装置可以使薄膜的沉积工艺有更大的调节范围,适合沉积多种薄膜。
  • 等离子增强化学沉积薄膜装置
  • [发明专利]一种化学沉积炉进出气气路装置及方法-CN201610528450.7有效
  • 李卫 - 廊坊西波尔钻石技术有限公司
  • 2016-07-06 - 2019-04-05 - C23C16/455
  • 一种化学沉积炉进出气气路装置及方法,属于化学沉积技术领域。圆柱形腔体的上侧顶角部位沿45度角焊接进挡板,进挡板与腔室顶角部形成一个密闭的进室,挡板分布有进气孔,进室连接进气口,圆柱形腔体的真空腔室内的底部连接电极柱、抽气室,抽气室连接升降主轴和抽气口,升降主轴连接基片台,电极柱连接,抽气室有抽气室壁,抽气室与升降主轴之间有间缝隙。本发明可以解决化学沉积设备沉积腔室中反应气体分布不均匀的问题,同时也不易产生粉尘、颗粒掉落到沉积基体表面。
  • 一种化学沉积进出气气路装置方法
  • [实用新型]一种化学沉积炉进出气气路装置-CN201620707641.5有效
  • 李卫 - 廊坊西波尔钻石技术有限公司
  • 2016-07-06 - 2016-12-07 - C23C16/455
  • 一种化学沉积炉进出气气路装置,属于化学沉积技术领域。圆柱形腔体的上侧顶角部位沿45度角焊接进挡板,进挡板与腔室顶角部形成一个密闭的进室,挡板分布有进气孔,进室连接进气口,圆柱形腔体的真空腔室内的底部连接电极柱、抽气室,抽气室连接升降主轴和抽气口,升降主轴连接基片台,电极柱连接,抽气室有抽气室壁,抽气室与升降主轴之间有间缝隙。本实用新型可以解决化学沉积设备沉积腔室中反应气体分布不均匀的问题,同时也不易产生粉尘、颗粒掉落到沉积基体表面。
  • 一种化学沉积进出气气路装置
  • [发明专利]一种化学沉积设备-CN201710565466.X有效
  • 许剑锋;周韬;陶俭;冯一飞;李嘉伦 - 华中科技大学
  • 2017-07-12 - 2019-10-08 - C23C16/27
  • 本发明属于化学沉积领域,并公开了一种化学沉积设备。本设备包括反应腔体,支撑台架,腔体上盖采用翻盖式结构,腔体四周布置了两个翻盖式观察窗,腔体内部零部件包括金属架、弹簧拉紧装置、电极、钼板基座、进气口及抽气口,架为双层结构,通过连接弹簧拉伸装置保持金属的紧绷,反应腔体共焊接五条冷却水道,分别分布于盖板、腔体侧壁上部、腔体外壁下部、弹簧装置连接块以及下底板,冷却水道中通入冷却水用于带走沉积实验产生的热量;支撑台架是反应腔体的载体。通过本发明,增强化学沉积过程的便捷性和安全性,提高设备的沉积效率。
  • 一种化学沉积设备
  • [实用新型]一种反应结构及化学沉积设备-CN202122554753.5有效
  • 王俊锋;袁明 - 广东鼎泰机器人科技有限公司
  • 2021-10-22 - 2022-03-22 - C23C16/27
  • 本实用新型公开了一种反应结构及化学沉积设备,反应机构包括内部形成有反应腔体的机架;机架上设置有安装夹具和工件放置盘,安装夹具上装夹有,机架上安装有升降装置,升降装置的升降端与安装夹具或工件放置盘固定连接;其在工作时,反应腔体内的反应气体与反应,在工件上发生化学沉积,从而在工件上形成金刚石薄膜;随着多次反应后,的温度场会发生改变;此时,升降装置调节安装夹具与工件放置盘之间的间距,使工件所在的位置与改变后的温度场相匹配,保证了沉积效果,且不需要增加额外的防护罩,占用反应腔体的空间较小,即反应结构及化学沉积设备具有占用空间小且沉积效果好的优点。
  • 一种反应结构化学沉积设备

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