[发明专利]光掩膜版及其制作方法在审

专利信息
申请号: 201811426610.2 申请日: 2018-11-27
公开(公告)号: CN111221214A 公开(公告)日: 2020-06-02
发明(设计)人: 陈新晋 申请(专利权)人: 芯恩(青岛)集成电路有限公司
主分类号: G03F1/62 分类号: G03F1/62
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 266000 山东省青岛市*** 国省代码: 山东;37
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摘要: 发明提供一种光掩膜版及其制作方法,其中,所述光掩膜版至少包括:版本体,保护膜;其中,所述保护膜可拆卸安装于所述版本体上,以保护所述版本体表面。本发明的光掩膜版及其制作方法,具有以下有益效果:本发明的光掩膜版,保护膜可拆卸安装于版本体上,并且保护膜和版本体之间可根据需要设计制作多种机械连接结构,安装便捷,保护膜破损时更便于拆卸维修;相较于现有技术,不采用胶合方式,而是采用机械连接结构,因而不会出现底胶漏气的问题,也就避免了由于底胶漏气所引起的光掩膜版发雾的问题,同时在保护膜破损需要拆卸维修时,不会因移除残留底胶而造成光掩膜版和清洗机器被污染。
搜索关键词: 光掩膜版 及其 制作方法
【主权项】:
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