[发明专利]蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示装置的方法有效

专利信息
申请号: 201811389156.8 申请日: 2018-11-21
公开(公告)号: CN109811344B 公开(公告)日: 2022-07-05
发明(设计)人: 朴种熙;金真锡;李凤源;金基泰;金奎佈;申贤哲;李大雨;李秉雄;李相赫 申请(专利权)人: 三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
主分类号: C23F1/30 分类号: C23F1/30;C23F1/16;C09K13/06;H01L51/56;H01L51/52;H01L27/32
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 代理人: 程月;刘灿强
地址: 韩国京畿*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 提供了一种蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻剂组合物相对于蚀刻剂组合物的总重量包括约8.5wt%至约10wt%的无机酸化合物、约1wt%至约10wt%的硫酸氢盐化合物、约50wt%至约60wt%的有机酸化合物、约1wt%至约5wt%的磺酸化合物、约1wt%至约5wt%的螯合物和作为余量的水。
搜索关键词: 蚀刻 组合 使用 制造 显示装置 方法
【主权项】:
1.一种蚀刻剂组合物,所述蚀刻剂组合物包括无机酸化合物、硫酸氢盐化合物、磺酸化合物、有机酸化合物和水,其中,所述蚀刻剂组合物包括相对于所述蚀刻剂组合物的总重量的50wt%至60wt%的所述有机酸化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星显示有限公司;株式会社东进世美肯,未经三星显示有限公司;株式会社东进世美肯许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201811389156.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top