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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]含有铜离子的自组装复合物-CN202310016854.8在审
发明人：姜熙敏;李城圭;姜奈延;金柳里;洪贤植;李相赫;金草园;金成悦 -专利权人：高丽大学校算学协力团
申请日： 2023-01-06 - 公布日： 2023-10-20 - 主分类号： A61K47/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种含有铜离子的自组装复合物，其包括：铜离子；以及一种或多种配体，其中配体和铜离子可逆地自组装或自分解，并且当存在多种类型的配体或多个配体时，自组装复合物的形状根据配体的混合比而不同地形成。
含有离子组装复合物

[发明专利]蚀刻剂组合物以及使用蚀刻剂组合物制造金属图案和阵列衬底的方法-CN201911217843.6有效
发明人：金俸均;金镇奭;沈承辅;崔新革;金承熙;李栋熙;金奎佈;申贤哲;李大雨;李秉雄;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2019-12-03 - 公布日： 2023-09-22 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本申请涉及蚀刻剂组合物，其包含过硫酸盐、四氮环化合物、二氯化合物、氟化合物和水，并且所述蚀刻剂组合物具有约1:0.5至约1:4的所述四氮环化合物与所述二氯化合物的重量比。所述蚀刻剂组合物可以蚀刻钛/铜的多层并且可以用于制造具有优异的蚀刻图案的性质的金属图案和阵列衬底。
蚀刻组合以及使用制造金属图案阵列衬底方法

[发明专利]不包含氟的蚀刻液组合物-CN201910192762.9有效
发明人： 李相赫;黄俊荣;李大雨;申贤哲;金奎佈 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2019-03-14 - 公布日： 2023-06-30 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明揭示用于液晶显示装置或有机发光二极管显示装置等的不包含氟的钼铜合金膜蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物包含蚀刻液组合物，所述蚀刻液组合物包含：过氧化氢5重量百分比至20重量百分比、四氮环状化合物0.01重量百分比至1.5重量百分比、三氮环状化合物0.01至1.5重量百分比、芳香族化合物0.01重量百分比至1重量百分比、胺类化合物3重量百分比至10重量百分比、以及水，还包含钼铜蚀刻液组合物，所述钼铜蚀刻液组合物还包含：过氧化氢稳定剂1重量百分比至5重量百分比、有机酸1重量百分比至5重量百分、无机酸0.1重量百分比至5重量百分比以及磺酸化合物1重量百分比至5重量百分比。
包含蚀刻组合

[发明专利]蚀刻组合物、形成图案的方法和制造显示装置的方法-CN201911085578.0有效
发明人：朴种熙;金基泰;金真锡;金奎佈;申贤哲;李大雨;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：提供一种用于蚀刻含银薄膜的蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、金属基氧化剂和水。
蚀刻组合形成图案方法制造显示装置

[发明专利]金属离子回收装置及具备该回收装置的电极制造装置-CN202210729789.9在审
发明人：文太均;李晙赫;田承勋;徐俊喆;许㯙;申贤哲;金成玟;李相赫;金荣光;金龙会;安容燮 -专利权人：株式会社东进世美肯
申请日： 2022-06-24 - 公布日： 2022-12-30 - 主分类号： C25C5/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属离子的回收系统和显示器用电极制造装置，通过将接地工艺和附加的冷却工艺用于金属离子的回收，可以从含金属离子的溶液有效回收金属离子并进行再生。
金属离子回收装置具备电极制造

[发明专利]蚀刻剂组合物和使用蚀刻剂组合物的金属图案的制造方法-CN201910328331.0有效
发明人：朴种熙;金基泰;金真锡;金奎布;申贤哲;李大雨;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： C23F1/02 文献下载
摘要：本公开提供一种蚀刻剂组合物和使用蚀刻剂组合物的金属图案的制造方法。所述蚀刻剂组合物包括：18wt％至25wt％的第一有机酸化合物；15wt％至20wt％的第二有机酸化合物；8.1wt％至9.9wt％的无机酸化合物；1wt％至4.9wt％的磺酸化合物；10wt％至20wt％的硫酸氢盐化合物；1wt％至5wt％的含氮二羰基化合物；1wt％至5wt％的氨基酸衍生物化合物；0.1wt％至2wt％的含铁氧化剂化合物；以及余量的水。
蚀刻组合使用金属图案制造方法

[发明专利]模块型家庭机器人-CN201780033070.9有效
发明人：韩恩惠;申润浩;孟昇佑;李相赫 -专利权人： LG电子株式会社
申请日： 2017-03-09 - 公布日： 2022-12-02 - 主分类号： B25J11/00 文献下载
摘要：根据本发明的实施例的模块型家庭机器人包括：设备模块耦合单元，该设备模块耦合单元与所述设备模块耦合；输入单元,该输入单元用于接收用户输入；输出单元，该输出单元用于输出语音和图像；感测单元，该感测单元用于感测用户；以及控制单元，该控制单元用于检测触发信号，根据所检测到的触发信号来激活设备模块或输出单元，以及控制模块型家庭机器人以执行被映射到所检测到的触发信号的操作，其中触发信号包括用户接近信号、用户语音信号、用户移动信号、特定时间检测信号以及环境变化检测信号。
模块家庭机器人

[发明专利]蚀刻液组合物及利用其的显示装置的制造方法-CN202210579448.8在审
发明人：朴种熙;金炯式;李相赫;金龙会;金荣光;姜东浒;申贤哲;金成太;李东勋;李民惠;李秉洙;郑棊水 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：提供一种蚀刻液组合物及利用其的显示装置的制造方法。一实施例涉及的蚀刻液组合物包括9.0重量％至9.9重量％的无机酸化合物、5.0重量％至10.0重量％的无机盐化合物、35重量％至45重量％的有机酸化合物、10重量％至20重量％的乳酸盐系化合物、0.1重量％至1.0重量％的含氧的氮环型化合物以及用于使整个组合物的总重量成为100重量％的余量的水，上述无机酸化合物的酸解离常数(pKa)值为‑1.0至‑3.0。
蚀刻组合利用显示装置制造方法

[发明专利]蚀刻液组合物以及利用其的金属布线形成方法-CN201810149885.X有效
发明人： 李相赫;申贤哲;金奎怖;李秉雄 -专利权人：东进世美肯株式会社
申请日： 2018-02-13 - 公布日： 2022-08-23 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种蚀刻液组合物以及利用其的金属布线形成方法，更详细而言，涉及在金属布线的制备工艺中通过以预定图案蚀刻金属膜而用于金属布线形成的蚀刻液组合物。所述蚀刻液组合物包含过硫酸盐、含氟化合物、4氮杂环化合物、2氯化物以及水，其中所述4氮杂环化合物与2氯化物的含量比为1:1.4至1:2。
蚀刻组合以及利用金属布线形成方法

[发明专利]蚀刻组合物、形成图案的方法和制造显示装置的方法-CN201911085664.1有效
发明人：朴种熙;金基泰;金真锡;金奎佈;申贤哲;李大雨;李相赫;郑鸿 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：提供一种蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。
蚀刻组合形成图案方法制造显示装置

[发明专利]蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法-CN201810631619.0有效
发明人：郑钟铉;朴弘植;梁熙星;金奎佈;申贤哲;李秉雄;李相赫;李大雨 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2018-06-19 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： C23F1/02 文献下载
摘要：提供蚀刻剂组合物、以及使用其制造金属图案和薄膜晶体管基板的方法。所述蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、氟化物、基于四个氮的环状化合物、基于一个氮的环状化合物、含硫(S)原子的基于三个氮的环状化合物、和水，和所述蚀刻剂组合物可通过蚀刻包括铜和钛的金属膜而用于制造金属图案，或者可用于制造薄膜晶体管基板。
蚀刻组合以及使用制造金属图案薄膜晶体管方法

[发明专利]蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示装置的方法-CN201811389156.8有效
发明人：朴种熙;金真锡;李凤源;金基泰;金奎佈;申贤哲;李大雨;李秉雄;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2018-11-21 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：提供了一种蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻剂组合物相对于蚀刻剂组合物的总重量包括约8.5wt％至约10wt％的无机酸化合物、约1wt％至约10wt％的硫酸氢盐化合物、约50wt％至约60wt％的有机酸化合物、约1wt％至约5wt％的磺酸化合物、约1wt％至约5wt％的螯合物和作为余量的水。
蚀刻组合使用制造显示装置方法

[发明专利]蚀刻剂组合物和使用其制造金属图案和阵列基板的方法-CN201910207694.9有效
发明人：金俸均;金镇爽;沈承辅;崔新革;沈枟亨;李栋熙;金奎佈;申贤哲;李大雨;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2019-03-19 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明的实施方式的蚀刻剂组合物包括过硫酸盐、四‑氮环化合物、具有两个或更多个羰基的羰基环化合物和水，并且四‑氮环化合物和羰基环化合物的重量比为约1:0.1至约1:2。蚀刻剂组合物可蚀刻钛/铜的多层并且可用于制造具有优异蚀刻图案特性的金属图案和阵列基板。
蚀刻组合使用制造金属图案阵列方法

[发明专利]多层电容器-CN202110798474.5在审
发明人：李大熙;李相赫;宋琯宇;赵洙玎;李钟和;车梵夏;郑东俊;金润 -专利权人：三星电机株式会社
申请日： 2021-07-15 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01G4/30 文献下载
摘要：本公开提供了一种多层电容器。所述多层电容器包括：主体，包括多层结构，在所述多层结构中堆叠有多个介电层并且堆叠有多个内电极，且所述介电层介于所述多个内电极之间；以及外电极，设置在所述主体的外部并连接到所述内电极。所述多个介电层中的至少一个介电层包括多个晶粒，并且在所述多个晶粒中具有位错的晶粒的比例为20％或更大。
多层电容器

[发明专利]蚀刻液组合物及利用该组合物的金属布线的制造方法-CN201711082676.X有效
发明人：裵俊佑;朴弘植;金奎佈;申贤哲;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2017-11-07 - 公布日： 2022-04-19 - 主分类号： C23F1/44 文献下载
摘要：根据本发明的一个实施例提供一种蚀刻液组合物及利用该组合物的金属布线的制造方法，蚀刻液组合物包含：8重量％至20重量％的过硫酸盐系化合物；从0.1重量％至5重量％的1‑氮系环型化合物、0.05重量％至1重量％的3‑氮系环型化合物及这些化合物的混合物中选择的1种以上的氮系环型化合物；0.1重量％至1重量％的氟系化合物；0.1重量％至1重量％的铜腐蚀防止化合物；以及余量的水。
蚀刻组合利用金属布线制造方法

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