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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]蚀刻剂和通过利用该蚀刻剂制造显示装置的方法-CN201811389335.1有效
发明人：朴种熙;金基泰;金真锡;金范洙;金相泰;沈庆辅;南基龙;尹暎晋;林大成 -专利权人：三星显示有限公司;东友精细化工有限公司
申请日： 2018-11-21 - 公布日： 2023-04-07 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：提供一种蚀刻剂和通过利用该蚀刻剂制造显示装置的方法，所述蚀刻剂包括：基于蚀刻剂的总重量，大约1wt％至大约15wt％的硫化过氧化物、大约5wt％至大约10wt％的硝酸、大约20wt％至大约40wt％的有机酸、大约0.05wt％至大约5wt％的硝酸铁、大约0.1wt％至大约5wt％的离子螯合剂以及大约0.1wt％至大约5wt％的缓蚀剂，其中，余量是去离子水。
蚀刻通过利用制造显示装置方法

[发明专利]蚀刻组合物、形成图案的方法和制造显示装置的方法-CN201911085578.0有效
发明人：朴种熙;金基泰;金真锡;金奎佈;申贤哲;李大雨;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2023-01-10 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：提供一种用于蚀刻含银薄膜的蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、金属基氧化剂和水。
蚀刻组合形成图案方法制造显示装置

[发明专利]蚀刻剂组合物和使用蚀刻剂组合物的金属图案的制造方法-CN201910328331.0有效
发明人：朴种熙;金基泰;金真锡;金奎布;申贤哲;李大雨;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2019-04-23 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： C23F1/02 文献下载
摘要：本公开提供一种蚀刻剂组合物和使用蚀刻剂组合物的金属图案的制造方法。所述蚀刻剂组合物包括：18wt％至25wt％的第一有机酸化合物；15wt％至20wt％的第二有机酸化合物；8.1wt％至9.9wt％的无机酸化合物；1wt％至4.9wt％的磺酸化合物；10wt％至20wt％的硫酸氢盐化合物；1wt％至5wt％的含氮二羰基化合物；1wt％至5wt％的氨基酸衍生物化合物；0.1wt％至2wt％的含铁氧化剂化合物；以及余量的水。
蚀刻组合使用金属图案制造方法

[发明专利]显示装置、制造窗的方法和制造显示装置的方法-CN202210214299.5在审
发明人：金仁培;金真锡 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-03-07 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： G09F9/30 文献下载
摘要：本公开提供一种显示装置、制造窗的方法和制造显示装置的方法。所述显示装置，包括：显示面板，其显示图像，所述显示面板包括：第一非折叠区域；第二非折叠区域；和折叠区域，设置在所述第一非折叠区域和所述第二非折叠区域之间；以及窗，设置在所述显示面板上并且包括与所述显示面板的所述折叠区域重叠的折叠部分，所述窗的所述折叠部分包括：第一弯曲表面；从所述第一弯曲表面延伸的平坦表面；以及从所述平坦表面延伸的第二弯曲表面。
显示装置制造方法

[发明专利]蚀刻装置及使用其的蚀刻方法-CN202210159844.5在审
发明人：郑载勳;金真锡;梁承要;尹炳瑞;赵廷奎;金圭宁;柳瀚善;许真宁 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-02-22 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： C03C15/00 文献下载
摘要：本公开提供了一种蚀刻装置和蚀刻方法，蚀刻装置包括：腔室；支承件，设置在腔室中；加热器，设置在支承件中；以及施加器，设置在支承件上。玻璃设置在支承件上，施加器在玻璃上施加蚀刻剂，使得所施加的蚀刻剂的厚度从玻璃的中央朝向玻璃的边缘减小。
蚀刻装置使用方法

[发明专利]蚀刻组合物、形成图案的方法和制造显示装置的方法-CN201911085664.1有效
发明人：朴种熙;金基泰;金真锡;金奎佈;申贤哲;李大雨;李相赫;郑鸿 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2019-11-08 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： C09K13/06 文献下载
摘要：提供一种蚀刻组合物、一种使用该蚀刻组合物形成图案的方法和一种使用该蚀刻组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻组合物包括无机酸化合物、羧酸化合物、磺酸化合物、二醇化合物、含氮二羰基化合物、硫酸盐化合物和水。
蚀刻组合形成图案方法制造显示装置

[发明专利]显示设备-CN202210097060.4在审
发明人：崔原瑀;金仁培;金昌玉;南东宪;金真锡;金炫兑 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2022-07-29 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种显示设备，所述显示设备包括：基底；第一绝缘层，位于所述基底上；第一金属层，位于所述第一绝缘层上并且具有约100兆帕(MPa)或更小的压缩应力或拉伸应力；以及第二绝缘层，所述第二绝缘层包括：第一层，覆盖所述第一金属层；以及第二层，包括与所述第一层的材料不同的材料。
显示设备

[发明专利]显示装置和制造显示装置的方法-CN202080078383.8在审
发明人：金永大;金真锡;朴商镇 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-05-15 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：显示装置可以包括：基板，包括显示区域和外围区域；像素，设置在基板上、显示区域中，并且包括像素电路、电连接到像素电路的像素电极、设置在像素电极上的发射层和设置在发射层上的对电极；电源线，设置在基板上、外围区域中，以将电力电压提供给像素；绝缘层，覆盖像素电路和电源线，并且包括电源线的至少一部分通过其暴露的开口；以及虚设图案，包括与像素电极的材料相同的材料，并且覆盖电源线的通过绝缘层的开口暴露的侧壁。
显示装置制造方法

[发明专利]蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示装置的方法-CN201811389156.8有效
发明人：朴种熙;金真锡;李凤源;金基泰;金奎佈;申贤哲;李大雨;李秉雄;李相赫 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2018-11-21 - 公布日： 2022-07-05 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：提供了一种蚀刻剂组合物和使用该蚀刻剂组合物制造显示装置的方法。所述蚀刻剂组合物相对于蚀刻剂组合物的总重量包括约8.5wt％至约10wt％的无机酸化合物、约1wt％至约10wt％的硫酸氢盐化合物、约50wt％至约60wt％的有机酸化合物、约1wt％至约5wt％的磺酸化合物、约1wt％至约5wt％的螯合物和作为余量的水。
蚀刻组合使用制造显示装置方法

[发明专利]蚀刻组合物和使用该蚀刻组合物的布线的形成方法-CN201810637712.2有效
发明人：朴种熙;金真锡;李凤源;金相佑;朴一龙;元凤渊;李大雨 -专利权人：三星显示有限公司;株式会社东进世美肯
申请日： 2018-06-20 - 公布日： 2022-06-28 - 主分类号： C23F1/30 文献下载
摘要：一种无磷酸蚀刻组合物和一种形成布线的方法，所述组合物包括：大约40wt％至大约60wt％的有机酸化合物；大约6wt％至大约12wt％的二醇化合物；大约1wt％至大约10wt％的硝酸、硫酸或盐酸；大约1wt％至大约10wt％的硝酸盐化合物；以及水，所有的wt％是基于无磷酸蚀刻组合物的总重量。
蚀刻组合使用布线形成方法

[发明专利]有机发光二极管显示设备-CN202011006742.7在审
发明人：金永大;金真锡 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-09-23 - 公布日： 2021-04-02 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种有机发光二极管显示设备，包括：基板、像素结构、下阻挡构件、上阻挡构件以及金属构件。基板包括显示区域和外围区域。像素结构在基板上在显示区域中。下阻挡构件在基板上在外围区域中并且围绕像素结构，并且包括与像素结构邻近的第一侧表面、第二侧表面和顶表面。上阻挡构件在下阻挡构件的顶表面和第二侧表面上，并且与下阻挡构件构成第一阻挡结构。金属构件在第一阻挡结构与基板之间，同时与上阻挡构件的在下阻挡构件的第二侧表面上的底表面接触。
有机发光二极管显示设备

[发明专利]制造显示设备的方法-CN202010837918.7在审
发明人：朴种熙;金真锡 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2020-08-19 - 公布日： 2021-02-26 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本公开涉及一种制造显示设备的方法，所述方法包括：在基体基底上形成第一导电层，所述基体基底包括面板区域和设置为接近于所述面板区域的裕度区域，所述裕度区域包括虚设图案区域；在所述第一导电层上形成光致抗蚀剂层；通过曝光和显影所述光致抗蚀剂层形成光致抗蚀剂图案；通过使用所述光致抗蚀剂图案蚀刻所述第一导电层来形成第一导电图案；以及去除所述光致抗蚀剂图案。所述形成所述第一导电图案包括：在所述面板区域中形成第一像素电路图案；和在所述裕度区域的所述虚设图案区域中形成虚设图案。其中未形成所述虚设图案的部分相对于所述虚设图案区域的开口率为大约30％或更大。
制造显示设备方法

[发明专利]显示基底、制造显示基底的方法和显示装置-CN201911143713.2在审
发明人：金湘甲;赵炫珉;金泰圣;裵水斌;丁有光;金真锡 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-11-20 - 公布日： 2020-06-02 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：提供一种显示基底、制造显示基底的方法和显示装置。所述制造显示基底的方法可以包括以下步骤：在基底的像素区域上形成漏电极；在所述基底的焊盘区域上形成焊盘电极；形成覆盖所述漏电极和所述焊盘电极的无机绝缘层；形成有机绝缘构件，所述有机绝缘构件在所述基底的所述像素区域具有第一厚度，在所述基底的所述焊盘区域具有小于所述第一厚度的第二厚度，暴露所述无机绝缘层的在所述漏电极上的第一部分，以及暴露所述无机绝缘层的在所述焊盘电极上的第二部分；去除所述无机绝缘层的所述第一部分和所述无机绝缘层的所述第二部分；以及部分地去除所述有机绝缘构件。
显示基底制造方法显示装置

[发明专利]制造显示装置的方法-CN201911015793.3在审
发明人：金永大;金真锡;金基泰;朴种熙 -专利权人：三星显示有限公司
申请日： 2019-10-24 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： H01L21/84 文献下载
摘要：本申请提供了制造显示装置的方法。该方法包括在基板的显示区中形成绝缘层；形成像素电极层，该像素电极层包括在绝缘层上顺序堆叠的第一导电层、第二导电层和第三导电层；通过用第一蚀刻剂蚀刻第三导电层，将像素电极层的第三导电层图案化；通过用第二蚀刻剂蚀刻第二导电层和第一导电层，将像素电极层的第二导电层和第一导电层图案化，以得到像素电极；在像素电极上形成有机发光层；和在有机发光层上形成与像素电极重叠的相对电极。
制造显示装置方法

[发明专利]蚀刻剂和用于使用该蚀刻剂制造显示装置的方法-CN201910964728.9在审
发明人：朴种熙;南基龙;金真锡;金基泰;李原昊;尹暎晋;朴英哲 -专利权人：三星显示有限公司;东友精细化工有限公司
申请日： 2019-10-11 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： C23F1/44 文献下载
摘要：本公开涉及蚀刻剂和用于使用该蚀刻剂制造显示装置的方法。蚀刻剂包括大约8wt％至大约12wt％的硝酸、大约3wt％至大约8wt％的烷基磺酸、大约7wt％至大约12wt％的硫酸盐、大约40wt％至大约55wt％的有机酸、大约0.5wt％至大约5wt％的有机酸盐和余量的水。
蚀刻用于使用制造显示装置方法

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