[发明专利]带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法在审
申请号: | 201811213408.1 | 申请日: | 2018-10-18 |
公开(公告)号: | CN109696805A | 公开(公告)日: | 2019-04-30 |
发明(设计)人: | 中山贵仁 | 申请(专利权)人: | 纽富来科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 徐殿军 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法。本发明某形态的带电粒子束描绘装置具备:描绘部,对载置于平台的描绘对象的基板照射带电粒子束而描绘图案;标记,设置于所述平台;高度检测器,检测所述标记的表面高度;焦点调整部,使所述带电粒子束合焦于所述基板的表面高度及检测出的所述标记的表面高度;照射位置检测器,检测所述标记表面上的所述带电粒子束的照射位置;漂移修正部,从基于所述照射位置检测器检测出的所述照射位置计算所述标记表面的所述带电粒子束的漂移量,基于该漂移量生成修正所述基板的表面上的漂移导致的照射位置偏移的修正信息;描绘控制部,用所述修正信息修正所述带电粒子束的照射位置。 | ||
搜索关键词: | 带电粒子束 照射位置 带电粒子束描绘装置 基板 漂移 标记表面 修正信息 漂移量 修正 描绘 检测 照射带电粒子束 检测器 高度检测器 检测器检测 描绘控制部 焦点调整 描绘对象 描绘图案 偏移 合焦 | ||
【主权项】:
1.一种带电粒子束描绘装置,其中,具备:描绘部,对载置于平台的描绘对象的基板照射带电粒子束来描绘图案;标记,设置于所述平台之上;高度检测器,检测所述标记的表面高度;焦点调整部,将所述带电粒子束合焦至所述基板的表面高度及检测出的所述标记的表面高度来进行调整;照射位置检测器,通过合焦至所述标记的表面高度的所述带电粒子束的照射,检测所述标记表面上的所述带电粒子束的照射位置;漂移修正部,从通过所述照射位置检测器检测出的所述照射位置来计算所述标记表面上的所述带电粒子束的漂移量,基于该漂移量,生成修正所述基板表面的漂移导致的照射位置偏移的修正信息;及描绘控制部,使用所述修正信息,修正所述带电粒子束的照射位置。
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