[发明专利]带电粒子束描绘装置及带电粒子束描绘方法

权利要求书

1.一种带电粒子束描绘装置，其中，

具备：

描绘部，对载置于平台的描绘对象的基板照射带电粒子束来描绘图案；

标记，设置于所述平台之上；

高度检测器，检测所述标记的表面高度；

焦点调整部，将所述带电粒子束合焦至所述基板的表面高度及检测出的所述标记的表面高度来进行调整；

照射位置检测器，通过合焦至所述标记的表面高度的所述带电粒子束的照射，检测所述标记表面上的所述带电粒子束的照射位置；

漂移修正部，从通过所述照射位置检测器检测出的所述照射位置来计算所述标记表面上的所述带电粒子束的漂移量，基于该漂移量，生成修正所述基板表面的漂移导致的照射位置偏移的修正信息；及

描绘控制部，使用所述修正信息，修正所述带电粒子束的照射位置。

2.如权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，其特征在于，

所述焦点调整部控制物镜来调整所述带电粒子束的焦点位置。

3.如权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，其特征在于，

所述焦点调整部控制所述平台来调整所述基板的表面高度及所述标记的表面高度。

4.如权利要求1所述的带电粒子束描绘装置，其特征在于，

照射于所述标记的所述带电粒子束的束流轴倾斜。

5.一种带电粒子束描绘方法，使用设置于平台之上的标记来调整带电粒子束，对载置于所述平台之上的描绘对象的基板照射所述带电粒子束来描绘图案，具备：

检测所述标记的表面高度的工序；

使所述带电粒子束合焦至所述标记的表面高度来照射所述带电粒子束，检测所述标记的表面的所述带电粒子束的照射位置的工序；

从检测出的所述照射位置来计算所述标记表面的所述带电粒子束的漂移量的工序；及

基于所述漂移量来修正所述带电粒子束的照射位置的工序。

6.如权利要求5所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

在对所述标记照射所述带电粒子束前，用物镜使所述带电粒子束合焦至所述标记的表面。

7.如权利要求5所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

在对所述标记照射所述带电粒子束之前，控制所述平台以使所述带电粒子束合焦至所述标记的表面高度。

8.如权利要求5所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

对所述标记照射所述带电粒子束之后，使所述带电粒子束合焦至所述基板的表面。

9.如权利要求5所述的带电粒子束描绘方法，其特征在于，

照射所述标记的所述带电粒子束的束流轴倾斜。