[发明专利]包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置及利用其的基板处理方法有效
| 申请号： | 201811076565.2 | 申请日： | 2018-09-14 |
| 公开（公告）号： | CN109509700B | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 郑相坤;金亨源;权赫俊 | 申请（专利权）人： | 吉佳蓝科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/02 | 分类号： | H01L21/02;H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 金鲜英;张敬强 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置及利用其的基板处理方法。本发明的包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置包括：腔室，其供用于进行等离子处理的基板搬入；旋转轴，其贯通所述腔室的一侧而设置；静电夹盘，其以能够与所述旋转轴的旋转联动而旋转的方式结合于所述旋转轴的一端而位于所述腔室的内部空间，且被施加偏置电源以使所述基板能够贴附；气体供应部，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向腔室内部供应工程气体；以及天线线圈，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向所述工程气体供应高频电源来产生等离子。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 能够 旋转 静电 等离子 处理 装置 利用 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置，其特征在于，包括：腔室，其供用于进行等离子处理的基板搬入；旋转轴，其贯通所述腔室的一侧而设置；静电夹盘，其以能够与所述旋转轴的旋转联动而旋转的方式结合于所述旋转轴的一端而位于所述腔室的内部空间，且被施加偏置电源以使所述基板能够贴附；气体供应部，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向腔室内部供应工程气体；天线线圈，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向所述工程气体供应高频电源来产生等离子；净化气体供应部，其以位于所述静电夹盘的上部的方式设置，且向腔室内部供应净化气体；以及排气部，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置，且排出所述工程气体和所述净化气体，在基板表面朝向所述腔室的上部的状态下，将搬入的基板固定在所述静电夹盘，在通过所述旋转轴的180°旋转，所述静电夹盘在原位反转，基板表面朝向所述腔室的下部的状态下，对基板进行等离子处理。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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