[发明专利]包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置及利用其的基板处理方法

说明书

本发明提供一种包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置及利用其的基板处理方法。本发明的包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置包括：腔室，其供用于进行等离子处理的基板搬入；旋转轴，其贯通所述腔室的一侧而设置；静电夹盘，其以能够与所述旋转轴的旋转联动而旋转的方式结合于所述旋转轴的一端而位于所述腔室的内部空间，且被施加偏置电源以使所述基板能够贴附；气体供应部，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向腔室内部供应工程气体；以及天线线圈，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向所述工程气体供应高频电源来产生等离子。

技术领域

本发明涉及一种等离子基板处理装置。

背景技术

等离子基板处理装置是对安放于夹盘的基板进行等离子处理的装置。

此时，等离子处理可以意指蚀刻或蒸镀。

此外，基板可以意指晶圆或安装有晶圆的托盘。

通常，就这种等离子基板处理装置而言，安放基板的夹盘位于腔室的下部，供应工程气体的气体供应部和天线线圈位于腔室的上部。

另外，通过天线线圈向工程气体供应高频电源而产生的等离子对基板进行等离子处理。

然而，这种等离子基板处理装置所存在的问题是，会产生副产物，而这种副产物降落至基板的表面，从而发生不良。

为解决这种问题，可以使夹盘位于腔室上部，并使供应工程气体的气体供应部和天线线圈位于下部来防止副产物降落至基板的表面。

然而，就这种解决问题的方法而言，需要用夹具将基板固定于夹盘，而由于夹具支撑着基板的一部分，等离子与夹具碰撞，因而存在基板的夹具周围区域无法被等离子处理，或与夹具碰撞而导致等离子处理集中于基板的其他区域，从而基板被不均匀地等离子处理的问题。

此外，当用夹具固定大面积基板或多个基板时，所存在的问题是，因荷重，基板的中央部从夹盘的表面悬浮，从而导致基板被不均匀地等离子处理的问题。

上述作为背景技术说明的事项仅用于增进对本发明的背景的理解，不应视为认可其相当于已公知于本领域技术人员的现有技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献0001：韩国注册专利第10-1209298号。

发明内容

技术问题

如上所述的现有技术存在如前所述的问题，而旨在解决这样的问题即是本发明的课题。

本发明的目的在于，提供一种静电夹盘能够被旋转的等离子基板处理装置及利用其的基板处理方法。

技术方案

用于达成这种目的的本发明的包括能够旋转的静电夹盘的等离子基板处理装置包括：腔室，其供用于进行等离子处理的基板搬入；旋转轴，其贯通所述腔室一的侧而设置；静电夹盘，其以能够与所述旋转轴的旋转联动而旋转的方式结合于所述旋转轴的一端而位于所述腔室的内部空间，且被施加偏置电源以使所述基板能够贴附；气体供应部，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向腔室内部供应工程气体；以及天线线圈，其以位于所述静电夹盘的下部的方式设置而向所述工程气体供应高频电源来产生等离子。

所述静电夹盘形成为半球形状，在所述腔室内部形成有空的空间，以使所述夹盘能够旋转，且包括净化气体供应部，其以位于所述静电夹盘的上部的方式设置，且向腔室内部供应净化气体。