[发明专利]检光二极管及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201811037593.3 申请日: 2018-09-06
公开(公告)号: CN110880540A 公开(公告)日: 2020-03-13
发明(设计)人: 黄润杰;周佳祥 申请(专利权)人: 鼎元光电科技股份有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L21/02;H01L31/109;H01L31/18
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 李坤
地址: 中国台湾新竹科学*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种检光二极管,包括:一基板,该基板的侧面为一呈斜面的入光面;以及一外延层,设置于该基板的上方。本发明还同时提出一种检光二极管的制造方法,包括:提供一基板;形成一外延层于该基板上;以及使该基板侧边形成一呈斜面的入光面。本发明另提出一种检光二极管的制造方法,包括:提供一基板;形成一蚀刻停止层于该基板上;形成一外延层于该蚀刻停止层上;以及以一药剂蚀刻该基板侧边以形成一呈斜面的入光面。因此,本发明的检光二极管在侧面耦光时具有优良的响应度。
搜索关键词: 二极管 及其 制造 方法
【主权项】:
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