[发明专利]一种像素单元及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201810958479.8 申请日: 2018-08-22
公开(公告)号: CN109285851B 公开(公告)日: 2021-06-01
发明(设计)人: 雷述宇 申请(专利权)人: 宁波飞芯电子科技有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 西安恒泰知识产权代理事务所 61216 代理人: 黄小梧
地址: 315500 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供了一种像素单元及其制备方法,该方法包括:步骤1,在P型外延层围绕像素单元的边缘注入P型材料形成隔离区;步骤2,在P型外延层的上表面形成多晶硅栅,并对多晶硅栅进行刻蚀,得到传输栅;步骤3,在P型外延层中分两次注入N型材料形成N型掺杂区;步骤4,在P型外延层上部注入N型材料形成悬浮扩散节点。本发明实现了抑制体区串扰的功效,减少了像素单元件以及像素与逻辑电路区间的面积浪费,有效提升填充因子。
搜索关键词: 一种 像素 单元 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种像素单元的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1,在P型外延层(2)围绕像素单元的边缘注入P型材料形成隔离区(304);步骤2,在P型外延层(2)的上表面形成多晶硅栅,并对多晶硅栅进行刻蚀,得到传输栅(302);步骤3,在P型外延层(2)中分两次注入N型材料形成N型掺杂区(403);步骤4,在P型外延层(2)上部注入N型材料形成悬浮扩散节点(303)。
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