[发明专利]一种阵列基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201810764065.1 申请日: 2018-07-12
公开(公告)号: CN109037276A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 应俊 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L27/32 分类号: H01L27/32;H01L21/77
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种阵列基板及其制备方法,包括:衬底基板;薄膜晶体管层,制备于所述衬底基板上;平坦层,制备于所述薄膜晶体管层上;透明电极,阵列的制备于所述平坦层上,且与所述薄膜晶体管层中的薄膜晶体管的漏极连接;感光层,与所述透明电极绝缘制备,图案化后形成对应相邻两所述透明电极间的间隙处的感光单元;像素定义层,制备于所述感光层上,且定义出对应所述透明电极的像素区域以及对应所述感光单元的感光区域,一所述像素区域对应一有机发光子像素;其中,外界光线经所述感光区域传至所述感光单元,所述感光单元用于将接收到的所述外界光线的光线强度转化为电信号,并反馈至控制电路,以调控所述有机发光子像素的发光强度。
搜索关键词: 制备 感光单元 透明电极 薄膜晶体管层 发光子像素 衬底基板 感光区域 外界光线 像素区域 阵列基板 感光层 平坦层 薄膜晶体管 像素定义层 控制电路 间隙处 图案化 漏极 绝缘 反馈 调控 转化
【主权项】:
1.一种阵列基板,其特征在于,包括:衬底基板;薄膜晶体管层,制备于所述衬底基板上;平坦层,制备于所述薄膜晶体管层上;透明电极,阵列的制备于所述平坦层上,且与所述薄膜晶体管层中的薄膜晶体管的漏极连接;感光层,与所述透明电极绝缘制备,图案化所述感光层形成感光单元,用以感测外界光线的光线强度;像素定义层,制备于所述感光层上,且定义出对应所述透明电极的像素区域以及对应所述感光单元的感光区域,一所述像素区域对应一有机发光子像素;其中,所述感光单元位于对应相邻两所述有机发光子像素之间的间隙位置,所述外界光线经所述感光区域传至所述感光单元,所述感光单元用于将接收到的所述外界光线的光线强度转化为电信号,并反馈至控制电路,以调控所述有机发光子像素的发光强度。
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